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龙图腾网获悉巴斯夫欧洲公司申请的专利用于在低-K材料、铜和/或钴的层的存在下选择性蚀刻包含铝化合物的层的组合物及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111465716B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880079174.8，技术领域涉及：C23F1/14；该发明授权用于在低-K材料、铜和/或钴的层的存在下选择性蚀刻包含铝化合物的层的组合物及方法是由J·T·V·霍格博姆;柯志正;王哲伟;A·克里普;郑怡萍设计研发完成，并于2018-12-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于在低-K材料、铜和/或钴的层的存在下选择性蚀刻包含铝化合物的层的组合物及方法在说明书摘要公布了：本发明描述一种用于在低‑k材料层和或包含铜和或钴的层存在下选择性蚀刻包含铝化合物的层的组合物及该组合物的对应用途。进一步描述一种用于制造半导体装置的方法，其包括在低‑k材料层和或包含铜和或钴的层存在下通过使至少一个包含铝化合物的层与所述组合物接触而选择性蚀刻该至少一个包含铝化合物的层的步骤。

本发明授权用于在低-K材料、铜和/或钴的层的存在下选择性蚀刻包含铝化合物的层的组合物及方法在权利要求书中公布了：1.一种组合物，其用于在低-k材料层和或包含铜和或钴的层存在下选择性蚀刻包含铝化合物的层，所述组合物包含： A一种或多种增溶剂，其选自4-甲基吗福林-4-氧化物、N-乙基吗福林-N-氧化物，及其混合物； B一种或多种包含氟阴离子的蚀刻剂； C一种或多种腐蚀抑制剂， 其中所述组分C为苯并三唑和6-甲基-苯并三唑的组合； D一种或多种螯合剂，其选自：1,2-环己二胺四乙酸、1,1,1,5,5,5-六氟-2,4-戊二酮、乙酰丙酮化物、2,2’-氮烷二基二乙酸、乙二胺四乙酸、艾提壮酸、甲烷磺酸、乙酰基丙酮、1,1,1-三氟-2,4-戊二酮、1,4-苯醌、8-羟基喹啉、亚柳基苯胺；四氯-1,4-苯醌、2-2-羟苯基-苯并唑、2-2-羟苯基-苯并噻唑、羟基喹啉磺酸、磺基柳酸、柳酸、吡啶、2-乙基吡啶、2-甲氧基吡啶、3-甲氧基吡啶、2-甲吡啶、二甲基吡啶、哌啶、哌嗪、三乙胺、三乙醇胺、乙胺、甲胺、异丁胺、叔丁胺、三丁胺、二丙胺、二甲胺、二乙二醇胺、单乙醇胺、甲基二乙醇胺、吡咯、异唑、联吡啶、嘧啶、吡嗪、哒嗪、喹啉、异喹啉、吲哚、1-甲基咪唑、二异丙胺、二异丁胺、苯胺、五甲基二亚乙基三胺、乙酰乙酰胺、氨基甲酸铵、吡咯烷二硫氨基甲酸铵、丙二酸二甲酯、乙酰乙酸甲酯、N-甲基乙酰乙酰胺、硫代苯甲酸四甲基铵、2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮、二硫化四甲基秋兰姆、乳酸、乳酸铵、甲酸、丙酸、γ-丁内酯、及其混合物； E一种或多种表面活性剂； F缓冲体系，其适合于将所述组合物的pH缓冲于6至8范围内，及 G水， 其中所述组合物的pH在6至8范围内。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人巴斯夫欧洲公司，其通讯地址为：德国莱茵河畔路德维希港；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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