北京北方华创微电子装备有限公司冯吕晨获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利一种匀流结构、工艺腔室及半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119400677B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411546135.8，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种匀流结构、工艺腔室及半导体工艺设备是由冯吕晨设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种匀流结构、工艺腔室及半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种匀流结构、工艺腔室及半导体工艺设备，匀流结构包括：隔环；进气匀流板，设置于隔环沿轴向的一端面，进气匀流板上设置有进气匀流孔；出气匀流板，设置于隔环沿轴向的另一端面，并与隔环、进气匀流板围成第一匀流腔，出气匀流板上设置有多个出气匀流孔；环形挡板，设置于第一匀流腔中，并且沿环形挡板的轴向投影方向，进气匀流孔的投影和部分出气匀流孔的投影位于环形挡板的内圈内，另一部分出气匀流孔的投影位于环形挡板上；驱动机构，与环形挡板连接，用于驱动环形挡板在进气匀流板和出气匀流板之间运动。本申请可以对流场分布进行调节，提高工艺气体的利用率。
本发明授权一种匀流结构、工艺腔室及半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种匀流结构，其特征在于，包括： 隔环； 进气匀流板，设置于所述隔环沿轴向的一端面，所述进气匀流板上设置有进气匀流孔； 出气匀流板，设置于所述隔环沿轴向的另一端面，并与所述隔环、所述进气匀流板围成第一匀流腔，所述出气匀流板上设置有多个出气匀流孔； 环形挡板，设置于所述第一匀流腔中，并且沿所述环形挡板的轴向投影方向上，所述进气匀流孔的投影和部分所述出气匀流孔的投影位于所述环形挡板的内圈内，另一部分所述出气匀流孔的投影位于所述环形挡板上； 驱动机构，与所述环形挡板连接，用于驱动所述环形挡板在所述进气匀流板和所述出气匀流板之间运动。
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