上海朋熙半导体有限公司张飞获国家专利权
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龙图腾网获悉上海朋熙半导体有限公司申请的专利一种模拟扫描电子显微镜的仿真图像生成方法及相关设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120747328B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511242897.3,技术领域涉及:G06T15/04;该发明授权一种模拟扫描电子显微镜的仿真图像生成方法及相关设备是由张飞;孙子孝设计研发完成,并于2025-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种模拟扫描电子显微镜的仿真图像生成方法及相关设备在说明书摘要公布了:本申请提供一种模拟扫描电子显微镜的仿真图像生成方法及相关设备,方法包括:基于真实晶圆的扫描电子显微镜图像数据,分别构建第一成像特征映射表以及第二成像特征映射表;基于两个成像特征映射表分别制作标准成像脚本和缺陷成像脚本;获取晶圆三维模型并解析各结构单元中相关联的工艺属性信息;基于工艺属性信息确定对应的标准成像脚本,对结构单元进行表面特性调整,以生成无缺陷仿真模型;根据预设的缺陷引入条件确定对应的缺陷成像脚本,并在指定的结构单元上添加缺陷,生成带缺陷仿真模型;最后生成模拟扫描电子显微镜的仿真图像。通过虚拟仿真手段批量制造高仿真的扫描电子显微镜图像,提升了仿真图像数据集的多样性与覆盖度。
本发明授权一种模拟扫描电子显微镜的仿真图像生成方法及相关设备在权利要求书中公布了:1.一种模拟扫描电子显微镜的仿真图像生成方法,其特征在于,包括: 基于真实晶圆的扫描电子显微镜图像数据,分别构建第一成像特征映射表以及第二成像特征映射表,所述第一成像特征映射表用于建立不同材料类型与工艺配方在其在无缺陷状态下与对应的标准成像特征之间的映射关系;所述第二成像特征映射表用于建立缺陷类型与对应的缺陷成像特征之间的映射关系,所述缺陷成像特征用于描述缺陷在扫描电子显微镜图像中的成像表现; 基于所述第一成像特征映射表的每一个标准成像特征以及所述第二成像特征映射表的每一个缺陷成像特征,分别制作对应的标准成像脚本和缺陷成像脚本; 获取包含有多个结构单元的晶圆三维模型并解析各所述结构单元中相关联的工艺属性信息,所述工艺属性信息包括:材料类型、工艺配方信息和掩膜版图形信息; 基于所述工艺属性信息,通过查询所述第一成像特征映射表确定对应的所述标准成像脚本,并基于所述标准成像脚本对所述结构单元进行表面特性调整,以生成无缺陷仿真模型; 在生成无缺陷仿真模型的基础上,根据预设的缺陷引入条件,通过查询所述第二成像特征映射表确定对应的缺陷成像脚本,并基于所述缺陷成像脚本在指定的所述结构单元上添加缺陷,生成带缺陷仿真模型; 基于所述无缺陷仿真模型和所述带缺陷仿真模型,生成模拟扫描电子显微镜的仿真图像。
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