东丽株式会社吉崎友哉获国家专利权
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龙图腾网获悉东丽株式会社申请的专利复合半透膜、复合半透膜元件及过滤装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120265376B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380081509.0，技术领域涉及：B01D71/56；该发明授权复合半透膜、复合半透膜元件及过滤装置是由吉崎友哉;征矢恭典;宫本龙马;小岩雅和;德田拓人;青山滋设计研发完成，并于2023-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本复合半透膜、复合半透膜元件及过滤装置在说明书摘要公布了：本发明提供在酸性条件下显示出优异的一价离子多价离子选择分离性能的复合半透膜及复合半透膜元件。本发明涉及一种复合半透膜，其具备多孔性支承层、和位于前述多孔性支承层的一个面侧的分离功能层，前述分离功能层含有半芳香族交联聚酰胺，将前述复合半透膜的前述分离功能层侧的面设为第1面，将与前述第1面相反的一侧的面设为第2面，从前述第1面侧对前述复合半透膜照射正电子束，由正电子湮灭寿命测定法导出的正电子束强度为0.1keV的条件下的前述分离功能层的平均孔径R1及正电子束强度为0.5keV的条件下的前述分离功能层的平均孔径R2为0.30nm以上2.00nm以下，并且满足0.90≤R1R2≤1.10。
本发明授权复合半透膜、复合半透膜元件及过滤装置在权利要求书中公布了：1.复合半透膜，其具备多孔性支承层、和位于所述多孔性支承层的一个面侧的分离功能层， 所述分离功能层含有半芳香族交联聚酰胺， 将所述复合半透膜的所述分离功能层侧的面设为第1面，将与所述第1面相反的一侧的面设为第2面， 从所述第1面侧对所述复合半透膜照射正电子束，由正电子湮灭寿命测定法导出的所述分离功能层的平均孔径R1及平均孔径R2为0.30nm以上2.00nm以下，并且满足0.90≤R1R2≤1.10， R1：正电子束强度为0.1keV的条件下的平均孔径； R2：正电子束强度为0.5keV的条件下的平均孔径。
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