中国科学院上海高等研究院;北京赛诺膜技术有限公司何涛获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海高等研究院;北京赛诺膜技术有限公司申请的专利一种层层自组装纳滤膜及其制备方法和用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119565398B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411850204.4，技术领域涉及：B01D69/12；该发明授权一种层层自组装纳滤膜及其制备方法和用途是由何涛;周博文;何荣荣;罗娟;孙楠;袁泉;蔡远航;韩雅灵;何柳东;张岩岗设计研发完成，并于2024-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种层层自组装纳滤膜及其制备方法和用途在说明书摘要公布了：本发明提供一种层层自组装纳滤膜及其制备方法和用途，层层自组装纳滤膜包括基膜和形成于所述基膜上的自组装涂层，所述自组装涂层至少包括起始交替涂层和分离交替涂层；所述基膜的截留分子量不小于500kDa；所述起始交替涂层为大分子量阳离子聚电解质层和阴离子聚电解质层交替组装，所述分离交替涂层为小分子量阳离子聚电解质层和阴离子聚电解质层交替组装；所述起始交替涂层形成于所述基膜上，且所述起始交替涂层中大分子量阳离子聚电解质层采用数均分子量不小于500kDa的阳离子聚电解质；所述分离交替涂层中小分子量阳离子聚电解质层为采用数均分子量不超过100kDa的阳离子聚电解质。本发明的层层自组装纳滤膜具有更优异的渗透性和微污染物截留率。
本发明授权一种层层自组装纳滤膜及其制备方法和用途在权利要求书中公布了：1.一种层层自组装纳滤膜，其特征在于，所述层层自组装纳滤膜包括基膜和形成于所述基膜上的自组装涂层，所述自组装涂层至少包括起始交替涂层和分离交替涂层；所述基膜的截留分子量不小于500kDa；所述起始交替涂层为大分子量阳离子聚电解质层和阴离子聚电解质层交替组装，所述分离交替涂层为小分子量阳离子聚电解质层和阴离子聚电解质层交替组装；所述起始交替涂层形成于所述基膜上，且所述起始交替涂层中大分子量阳离子聚电解质层为采用数均分子量不小于500kDa的阳离子聚电解质；所述分离交替涂层中小分子量阳离子聚电解质层采用数均分子量不超过100kDa的阳离子聚电解质。
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