重庆芯联微电子有限公司张年亨获国家专利权
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龙图腾网获悉重庆芯联微电子有限公司申请的专利刻蚀设备及其维护方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119297065B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411080042.0，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权刻蚀设备及其维护方法是由张年亨;蔡弦助设计研发完成，并于2024-08-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本刻蚀设备及其维护方法在说明书摘要公布了：一种刻蚀设备及其维护方法，所述刻蚀设备包括晶圆基座、耦接的上电极板以及上部冷却板，所述上部冷却板用于对所述上电极板进行冷却；所述方法包括：对所述上部冷却板进行至少一轮处理工艺，以在所述上部冷却板的部分表面形成保护层，所述上部冷却板的部分表面至少包含朝向所述晶圆基座的第一面；其中，每轮处理工艺包括：对所述上部冷却板的部分表面进行轰击处理；采用第一反应气体，在所述上部冷却板被轰击后的表面形成所述保护层的至少一部分。本发明可以提高上部冷却板的使用寿命，降低更换成本。
本发明授权刻蚀设备及其维护方法在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀设备的维护方法，其特征在于，所述刻蚀设备包括晶圆基座、耦接的上电极板以及上部冷却板，所述上部冷却板用于对所述上电极板进行冷却； 所述方法包括： 对所述上部冷却板进行至少一轮处理工艺，以在所述上部冷却板的部分表面形成保护层，所述上部冷却板的部分表面至少包含朝向所述晶圆基座的第一面； 其中，每轮处理工艺包括： 对所述上部冷却板的部分表面进行轰击处理； 采用第一反应气体，在所述上部冷却板被轰击后的表面形成所述保护层的至少一部分。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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