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龙图腾网获悉东北大学申请的专利一种二维钼氮化物和晶态Mo2N纳米片的无氨气制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117699745B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311564498.X，技术领域涉及：C01B21/06；该发明授权一种二维钼氮化物和晶态Mo2N纳米片的无氨气制备方法是由崔伟斌;种禾;陈昭辉;郭宏运;李强;赵妮;王强设计研发完成，并于2023-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种二维钼氮化物和晶态Mo2N纳米片的无氨气制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及纳米储能材料制备技术领域，尤其涉及一种二维钼氮化物和晶态Mo2N纳米片的无氨气制备方法。通过稀土钼铝硼化合物的二维衍生钼硼化物为前驱体，在无氨气条件下制备具有六次对称层状结构的二维钼氮化物和晶态Mo2N纳米片。以金属钼、重稀土金属、金属铝和硼形成的具有六方晶系的化合物为前驱体，通过含氟的酸性溶液湿法刻蚀该化合物中的铝原子层及稀土原子后进行插层和剥离，形成具有一定储能密度的二维衍生物。对该种二维衍生物在氮气下以不同温度下退火，调控该二维衍生物内原子层面间距、表面化学态、表面官能团、化学键，实现从二维钼硼化物到具有六次对称层状结构的二维钼氮化物和晶态Mo2N的原位转变，显著提高其比电容。

本发明授权一种二维钼氮化物和晶态Mo2N纳米片的无氨气制备方法在权利要求书中公布了：1.一种二维钼氮化物和晶态Mo2N纳米片的无氨气制备方法，其特征在于，以稀土钼铝硼化合物的二维衍生钼硼化物为前驱体，在无氨气的特定气氛条件下，以不同温度进行氮化处理，调控二维衍生钼硼化物的层间距、表面官能团、内部化学键、结构，制备具有六次对称层状结构的二维钼氮化物和晶态Mo2N纳米片； 所述二维衍生钼硼化物的制备步骤如下： 步骤1、Mo23R132AlB2前驱体经过含氟离子溶液刻蚀，形成钼与硼原子比不再为Mo23R132AlB2前驱体中原有化学计量比的二维衍生物，其中包含稀土原子被刻蚀所形成的有序空位；在刻蚀过程中二维衍生物表面键合负离子官能团；刻蚀完成形成钼基MBene，经过插层处理和手摇处理，得到单层以上的钼基MBene悬浮液； 步骤2、单层以上的钼基MBene稳定悬浮于去离子水中；冻干钼基MBene悬浮液得到MBene气凝胶，为稀土钼铝硼化合物的二维衍生钼硼化物； 所述稀土钼铝硼化合物的二维衍生钼硼化物主要由钼Mo、硼B、F、Cl、O组成；所述F、Cl、O作为表面官能团；稀土钼铝硼化合物的二维衍生钼硼化物含有稀土原子缺位引入的有序空位，具有与Mo23R132AlB2前驱体相同的六次对称结构。

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