中微半导体设备(上海)股份有限公司姜勇获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利一种气体注入装置、外延设备及使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117305808B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210729491.8，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种气体注入装置、外延设备及使用方法是由姜勇;庞云玲设计研发完成，并于2022-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种气体注入装置、外延设备及使用方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种气体注入装置、外延设备及使用方法，所述气体注入装置，用于外延设备，包括：法兰体和设置于所述法兰体内的若干个气体注入通道及出气口；每一所述气体注入通道包括：进气口，与气体源连接；混气通道，与所述进气口连通；且所述混气通道内设置有若干个混气孔，用于将所述气体源供应的工艺气体混合均匀；以及匀气通道，与所述混气通道连通，用于使混合均匀的工艺气体分布均匀；所述出气口与所述气体注入通道和所述外延设备的反应腔连通，用于将混合均匀且分布均匀的工艺气体输送至所述反应腔内。本发明可以向反应腔内输送混合均匀且分布均匀的工艺气体，且使工艺气体进入反应腔时呈层流状态流动，以保证晶圆良品率。
本发明授权一种气体注入装置、外延设备及使用方法在权利要求书中公布了：1.一种气体注入装置，用于外延设备，其特征在于，包括：法兰体和设置于所述法兰体内的若干个气体注入通道及出气口； 每一所述气体注入通道包括：进气口，与气体源连接；混气通道，与所述进气口连通；且所述混气通道内设置有若干个混气孔，用于将所述气体源供应的工艺气体混合均匀；以及匀气通道，与所述混气通道连通，用于使混合均匀的工艺气体分布均匀； 所述出气口与所述气体注入通道的匀气通道和所述外延设备的反应腔连通，用于将混合均匀且分布均匀的工艺气体输送至所述反应腔内； 在所述气体注入装置的长度方向上，所述气体注入通道的长度小于所述出气口的长度，所述混气孔的孔径小于所述混气通道的长度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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