上海新阳半导体材料股份有限公司王溯获国家专利权
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龙图腾网获悉上海新阳半导体材料股份有限公司申请的专利一种EUV金属光刻胶及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117148670B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210576176.6，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种EUV金属光刻胶及其制备方法和应用是由王溯;方书农设计研发完成，并于2022-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种EUV金属光刻胶及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种EUV金属光刻胶及其制备方法和应用。本发明所提供的光刻胶组合物包含以下组分：如下式所示的化合物A、如下式所示的蝶烯B、光产酸剂、有机溶剂和有机碱。所述光刻胶可用于EUV光刻技术，具备高分辨率、高灵敏度和高光敏度的特点，有广泛的应用前景。
本发明授权一种EUV金属光刻胶及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包含以下组分：如下式所示的化合物A、如下式所示的蝶烯B、光产酸剂、有机溶剂和有机碱； 所述化合物A以重量份数计的份数为40-60份，所述蝶烯B以重量份数计的份数为40-60份。
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