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龙图腾网获悉万桦(常州)新材料科技有限公司申请的专利一种CMP抛光垫及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116766077B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310853529.7，技术领域涉及：B24D11/00；该发明授权一种CMP抛光垫及其制备方法是由傅一非;沈杰;苏明;王志华;陈德伟设计研发完成，并于2023-07-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种CMP抛光垫及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种抛光材料，具体公开了一种CMP抛光垫及其制备方法。一种CMP抛光垫的制备方法，包括以下步骤：将部分溶剂先进行搅拌，加入部分助剂，搅拌均匀后提升转速，接着加入部分助剂，搅拌均匀，得到混合料A；将剩下的溶剂和剩下的助剂搅拌均匀，在搅拌的过程中，缓慢加入部分聚氨酯树脂，搅拌均匀，再缓慢加入碳粉，搅拌均匀后提升转速，继续搅拌，接着再加入部分聚氨酯树脂，搅拌均匀，得到混合料B；将混合料A加入到混合料B中，搅拌均匀，再加入剩下的聚氨酯树脂，搅拌混合均匀，得到混合料C，过滤，真空脱泡，得到聚氨酯浆料；将聚氨酯浆料涂覆在无纺布上，得到CMP抛光垫。

本发明授权一种CMP抛光垫及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种CMP抛光垫的制备方法，其特征在于：包括以下步骤： 混合料A制备：在900-1100rmin的转速下，将部分溶剂进行搅拌，在搅拌的过程中，加入部分助剂，搅拌均匀后提升转速为1100-1300rmin，接着加入部分助剂，搅拌均匀，得到混合料A； 混合料B制备：在900-1100rmin的转速下，将剩下的溶剂和剩下的助剂搅拌均匀，在搅拌的过程中，缓慢加入部分聚氨酯树脂，搅拌均匀，再缓慢加入碳粉，搅拌均匀后提升转速为1400-1600rmin，继续搅拌，接着再加入部分聚氨酯树脂，搅拌均匀，得到混合料B； 浆料制备：在1100-1300rmin的转速下，将混合料A加入到混合料B中，搅拌均匀，再加入剩下的聚氨酯树脂，搅拌混合均匀，得到混合料C，过滤，真空脱泡，得到聚氨酯浆料； 涂覆：将无纺布先浸渍在聚氨酯浆料中，取出然后加入到N,N-二甲基甲酰胺水溶液中，再次取出最后在155-165℃下进行烘干，得到CMP抛光垫；三次分批加入聚氨酯树脂的重量比为1：2.5-3.5：5.5-6.5；三次分批加入助剂的重量比为1：0.1-0.15：0.2-0.3。

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