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上海华力集成电路制造有限公司付欣欣获国家专利权

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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利OPC修正方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116661234B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210154850.1,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权OPC修正方法是由付欣欣设计研发完成,并于2022-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。

OPC修正方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种OPC修正方法,包括:步骤一、提供初始目标层并设置掩模板最小解析尺寸;步骤二、在初始目标层中选择出在后续MBOPC修正中会违反掩模规则检查的第一图形;步骤三、对第一图形进行分段处理将第一图形的各边分割成多个分段,分段包括角分段和中间分段,分段处理后的初始目标层为第二目标层;步骤四、基于所述第二目标层进行MBOPC修正并得到掩模板图层,MBOPC修正包括多次迭代循环运算,各次迭代循环运算中,角分段和中间分段分开修正,通过角分段控制掩模板图层中第一图形的顶角尺寸,通过中间分段控制掩模板图层中第一图形的面积。本发明能实现对掩模板图层中的图形尺寸进行调控,能在不违反MRC的情况下,使曝光图形符合目标值并符合量产需求。

本发明授权OPC修正方法在权利要求书中公布了:1.一种OPC修正方法,其特征在于,包括如下步骤: 步骤一、提供初始目标层并设置掩模板最小解析尺寸; 步骤二、根据所述掩模板最小解析尺寸在所述初始目标层中选择出在后续基于模型的OPC修正中会违反掩模规则检查的第一图形; 步骤三、对所述第一图形进行分段处理,所述分段处理将所述第一图形的各边分割成多个分段,各所述边的各所述分段包括角分段和中间分段,所述角分段的一个顶点为所述边的顶点,所述角分段的另一个顶点为相邻的所述中间分段的顶点;所述分段处理后的所述初始目标层为第二目标层; 步骤四、基于所述第二目标层进行基于模型的OPC修正并得到掩模板图层,所述基于模型的OPC修正包括多次迭代循环运算,各次所述迭代循环运算中,所述第一图形的各所述边的所述角分段和所述中间分段分开修正,通过所述角分段控制所述掩模板图层中所述第一图形的顶角尺寸,通过所述中间分段控制所述掩模板图层中所述第一图形的面积。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海华力集成电路制造有限公司,其通讯地址为:201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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