深圳市埃芯半导体科技有限公司韩玉永获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市埃芯半导体科技有限公司申请的专利一种薄膜参数的获取方法、获取装置及终端设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115979148B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310033719.4,技术领域涉及:G01B11/06;该发明授权一种薄膜参数的获取方法、获取装置及终端设备是由韩玉永;洪峰;张雪娜;王帅;张宇帆设计研发完成,并于2023-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种薄膜参数的获取方法、获取装置及终端设备在说明书摘要公布了:本申请公开了一种薄膜参数的获取方法、装置及终端设备。该方法包括:获取薄膜的函数关系式,函数关系式的自变量包括薄膜各层的厚度及光学常数,因变量包括薄膜的反射光偏振信息;将薄膜各层的厚度估计值与各层对应系数的乘积和各层的光学常数的估计值代入函数关系式,得到反射光偏振信息模拟值,薄膜中相同材料层所对应的系数相同;当薄膜的反射光偏振信息的模拟值与实验值的差值满足预设条件时,将薄膜各层的厚度估计值与各层对应系数的乘积作为厚度实际值,各层的光学常数的估计值作为光学常数实际值。本申请方案通过将薄膜中相同材料层乘以相同的系数,拟合薄膜各层的光学常数和厚度的实际值,可以使计算出的厚度和光学常数的实际值更加准确。
本发明授权一种薄膜参数的获取方法、获取装置及终端设备在权利要求书中公布了:1.一种薄膜参数的获取方法,其特征在于,包括: 获取薄膜的函数关系式,其中,所述函数关系式的自变量包括所述薄膜各层的厚度及各层的光学常数,所述函数关系式的因变量包括所述薄膜的反射光偏振信息; 将所述薄膜各层的厚度估计值与各层对应系数的乘积,和各层的光学常数的估计值代入所述函数关系式,计算得到所述薄膜的反射光偏振信息的模拟值,其中,所述薄膜中相同材料的层所对应的系数相同,薄膜的同种材料各层之间存在相同的约束,所述约束表现为所述系数; 当所述薄膜的反射光偏振信息的模拟值与所述薄膜的反射光偏振信息的实验值的差值满足预设条件时,将所述薄膜各层的厚度估计值与各层对应系数的乘积作为厚度实际值,将所述薄膜各层的光学常数的估计值作为光学常数实际值; 在所述将所述薄膜各层的厚度估计值与各层对应系数的乘积,和各层的光学常数的估计值代入所述函数关系式,计算得到所述薄膜的反射光偏振信息的模拟值之后,所述薄膜参数的获取方法还包括: 当所述薄膜的反射光偏振信息的模拟值与所述薄膜的反射光偏振信息的实验值的差值不满足所述预设条件时,对所述薄膜各层的厚度估计值、各层对应的系数和各层的光学常数的估计值进行调整; 将各层调整后的厚度估计值确定为各层新的厚度估计值,各层对应的调整后的系数确定为各层对应的新的系数,各层光学常数调整后的估计值确定为各层光学常数新的估计值,返回执行所述将所述薄膜各层的厚度估计值与各层对应系数的乘积,和各层的光学常数的估计值代入所述函数关系式,计算得到所述薄膜的反射光偏振信息的模拟值的步骤; 所述对所述薄膜各层的厚度估计值、各层对应的系数和各层的光学常数的估计值进行调整,包括: 利用梯度下降法对所述薄膜各层的厚度估计值、各层对应的系数和各层的光学常数的估计值进行调整。
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