上海芯刻微材料技术有限责任公司王溯获国家专利权
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龙图腾网获悉上海芯刻微材料技术有限责任公司申请的专利一种ArF浸没式光刻胶用添加剂及含其的光刻胶获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115963691B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111172182.7，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种ArF浸没式光刻胶用添加剂及含其的光刻胶是由王溯;方书农;徐森;林逸鸣设计研发完成，并于2021-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种ArF浸没式光刻胶用添加剂及含其的光刻胶在说明书摘要公布了：本发明公开了一种193nm湿法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用。具体公开了一种光刻胶，其包括如下原料：如式I所示的添加剂、如式L所示的树脂、光致产酸剂和溶剂，所述添加剂的重均分子量为1000～3000；所述添加剂的重均分子量数均分子量比值为1～5。本发明的光刻胶可改善在浸没式光刻曝光过程中材料在水中被浸出的问题，从而可以形成具有优异敏感性和高分辨率的光刻胶膜微图案。
本发明授权一种ArF浸没式光刻胶用添加剂及含其的光刻胶在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶，其包括如下原料：如式I所示的添加剂、如式L所示的树脂、光致产酸剂和溶剂；所述添加剂的重均分子量为1000~3000；所述添加剂的重均分子量数均分子量比值为1~5； ; L； 所述如式L所示树脂由如下方法制备而成：有机溶剂中，引发剂的作用下，将不饱和酸酯聚合即可；所述不饱和酸酯为3-双环[2.2.1]庚-5-烯-2-基-3-羟基丙酸叔丁酯、1-甲基金刚烷基丙烯酸酯和γ-丁内酯丙烯酸酯的混合物；其中，在所述混合物中，三者的摩尔比为1:1:1； 所述的如式L所示的树脂的重均分子量为8000-9000；所述如式I所示的添加剂为： ； 所述添加剂的制备方法包括以下步骤： S1:有机溶剂中，将化合物B1与L-酒石酸二甲酯和对甲苯磺酸进行缩醛反应，制得化合物C1即可；所述化合物B1为； S2:溶剂中，在碱的作用下，将所述化合物C1进行酯水解反应，制得化合物D1即可； S3:有机溶剂中，将所述化合物D1与4-二甲基氨基吡啶进行聚合反应，制得如式I所示的添加剂即可。
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