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龙图腾网获悉LTC有限公司申请的专利用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114651215B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080078373.4，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物是由崔好星;金圭祥;李锺淳;河相求;全炳宇;梁允模;卞杞天;崔然洙;金善正设计研发完成，并于2020-11-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物，涉及一种能够用于制造显示器的所有工艺的光刻胶剥离液组合物。更具体地，本发明的用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物能够应用于所有过渡金属及氧化物半导体电线，具有优异的去除在硬烘烤HardBaked工艺、注入Implant工艺及干法蚀刻DryEtch工艺后产生的变性的光刻胶的能力。尤其，示出对于干法蚀刻后易受腐蚀的铜Cu线图案边缘部分进一步特化的腐蚀抑制效果。

本发明授权用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物在权利要求书中公布了：1.一种用于制造显示器的光刻胶剥离液组合物，其特征在于， 包括： a0.01重量百分比～3重量百分比的过渡金属及金属氧化物缓蚀剂； b0.05重量百分比～3重量百分比的无硫缓蚀剂； c1重量百分比～10重量百分比的伯胺及仲胺的混合物； d1重量百分比～15重量百分比的环状醇； e1重量百分比～30重量百分比的非质子极性有机溶剂； f1重量百分比～30重量百分比的质子极性有机溶剂；以及 g剩余量的超纯水， 其中所述过渡金属及金属氧化物缓蚀剂为选自由磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸三铵、甲基膦酸、乙基膦酸、丙基膦酸、丁基膦酸、叔丁基膦酸、戊基膦酸、正己基膦酸、磷酸三乙酯、辛基膦酸、癸基膦酸、十二烷基膦酸、十四烷基膦酸、十八烷基膦酸、磷酸己酯、磷酸庚酯、辛基磷酸酯、磷酸壬酯、磷酸癸酯及磷酸十二烷基酯组成的组中的一种以上， 其中所述无硫缓蚀剂为选自由咪唑[4,5-b]吡啶、6-甲基咪唑[4,5-b]吡啶、咪唑[4,5-b]吡啶-2-羧酸、6-甲基咪唑[4,5-b]吡啶-2-羧酸、1H-吡唑并[3,4-b]吡啶、3-甲基-1H-吡唑并[3,4-b]吡啶、1H-吡唑并[3,4-b]吡啶-3-羧酸及5-甲基-1H-吡唑并[3,4-b]吡啶-3-羧酸组成的组中的一种以上， 其中以所述组合物的总重量为基准，所述伯胺及仲胺的混合物中的伯胺的含量小于3重量百分比。

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