株式会社日立高新技术木下能开获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利真空处理装置的异物测定方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114641851B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080021254.5，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权真空处理装置的异物测定方法是由木下能开;早野寿典;渡边智行;尾崎训史设计研发完成，并于2020-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空处理装置的异物测定方法在说明书摘要公布了：一种真空处理装置的异物测定方法，该真空处理装置具备：处理单元，其具有在内部具有处理晶片的处理室的真空容器、及将所述处理室内排气的排气泵；真空搬运单元，其具有搬运所述晶片的搬运室；和连接管，其具有在所述处理室与所述搬运室之间能够搬运所述晶片的通路，所述异物测定方法具有：异物收集工序，相比于所述处理室的内压，提高所述搬运室的内压，由此从所述搬运室向所述处理室在所述通路内使气体的流动产生，向横跨所述搬运室、所述通路与所述处理室的位置搬运晶片，并保持给定时间；以及异物测定工序，对附着在所述晶片的表面的异物进行测定。
本发明授权真空处理装置的异物测定方法在权利要求书中公布了：1.一种真空处理装置的异物测定方法， 所述真空处理装置具备：处理单元，其具有在内部具有处理晶片的处理室的真空容器、及将所述处理室内排气的排气泵；真空搬运单元，其具有搬运所述晶片的搬运室；和连接管，其具有在所述处理室与所述搬运室之间能够搬运所述晶片的通路，其特征在于， 所述真空处理装置的异物测定方法具有： 异物收集工序，相比于所述处理室的内压，提高所述搬运室的内压，由此从所述搬运室向所述处理室在所述通路内使气体的流动产生，向横跨所述搬运室、所述通路与所述处理室的位置搬运晶片，并保持给定时间；以及 异物测定工序，对附着在所述晶片的表面的异物进行测定， 在所述异物收集工序中，向所述搬运室内部供给气体， 在所述晶片横跨所述搬运室、所述通路与所述处理室的位置，调节所述气体向该搬运室内部的供给或者排气，以使得供给至所述搬运室内部的所述气体的流动成为中间流。
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