安徽四象半导体材料科技有限公司崔健获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽四象半导体材料科技有限公司申请的专利蚀刻用边缘环及等离子蚀刻设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223513907U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422891648.4,技术领域涉及:H01J37/32;该实用新型蚀刻用边缘环及等离子蚀刻设备是由崔健;许赞;朴永哲设计研发完成,并于2024-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本蚀刻用边缘环及等离子蚀刻设备在说明书摘要公布了:本实用新型的技术方案提供一种蚀刻用边缘环及等离子蚀刻设备,边缘环呈环状以围绕晶圆周围;所述边缘环沿轴向的一侧具有向中心突出的支撑段,在内环面沿轴向的另一侧具有向外侧凹陷的对接段;支撑面接合支撑段以及对接段,支撑面平行于边缘环的端面,以支撑晶圆。边缘环可用于承托晶圆,并在承托晶圆时通过阶梯设置的对接段以及支撑面改善晶圆蚀刻效果。其对接段可以填充晶圆的侧面空间,从而可避免对晶圆的边缘的过度腐蚀,实现优化晶圆蚀刻均匀性的目的。
本实用新型蚀刻用边缘环及等离子蚀刻设备在权利要求书中公布了:1.一种蚀刻用边缘环,其特征在于,边缘环呈环状以围绕晶圆4周围;所述边缘环5具有内环面51;内环面51沿轴向的一侧具有向中心突出的支撑段511,内环面51沿轴向的另一侧具有向外侧凹陷的对接段512;支撑面513接合支撑段511以及对接段512,支撑面513平行于边缘环的端面,以支撑晶圆4。
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