华天慧创科技(西安)有限公司刘宁获国家专利权
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龙图腾网获悉华天慧创科技(西安)有限公司申请的专利一种光学阵列透镜的晶圆级纳米压印结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223513435U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423056909.7,技术领域涉及:G03F7/00;该实用新型一种光学阵列透镜的晶圆级纳米压印结构是由刘宁;王少博;安辉;朱龙;袁万利设计研发完成,并于2024-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学阵列透镜的晶圆级纳米压印结构在说明书摘要公布了:本实用新型涉及光学器件的精密制造技术领域,公开了一种光学阵列透镜的晶圆级纳米压印结构。该结构包括第一光学玻璃透镜组件以及第二光学玻璃透镜组件;所述第一光学玻璃透镜组件以及第二光学玻璃透镜组件的透镜面型侧通过键合胶水相对键合设置;所述第一光学玻璃透镜组件以及第二光学玻璃透镜组件的透镜面型围绕透镜模型分别对应设有若干环形排气槽,所述键合胶水位于若干环形排气槽之间。本装置在第一光学玻璃透镜组件和第二光学玻璃透镜组件的透镜面型周围设置若干环形排气槽,可以显著优化排气效果。在键合过程中,这些排气槽可以作为气体逸出的通道,有效减少气泡在透镜组件之间的积聚。
本实用新型一种光学阵列透镜的晶圆级纳米压印结构在权利要求书中公布了:1.一种光学阵列透镜的晶圆级纳米压印结构,其特征在于,包括第一光学玻璃透镜组件1以及第二光学玻璃透镜组件2; 所述第一光学玻璃透镜组件1以及第二光学玻璃透镜组件2的透镜面型侧通过键合胶水3相对键合设置; 所述第一光学玻璃透镜组件1以及第二光学玻璃透镜组件2的透镜面型围绕透镜模型分别对应设有若干环形排气槽,所述键合胶水3位于若干环形排气槽之间。
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