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龙图腾网获悉深圳光峰科技股份有限公司申请的专利混合光栅制备装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223513360U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422770247.3，技术领域涉及：G02B5/18；该实用新型混合光栅制备装置是由赵家琦;王珊;李屹设计研发完成，并于2024-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本混合光栅制备装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种混合光栅制备装置，包括：光刻基底，用于承载光刻胶层；光栅掩膜，包括与多个光刻区域一一对应的多个掩膜区域，每个掩膜区域的光栅参数与每个掩膜区域对应的光刻区域的目标曝光参数匹配；曝光组件，用于出射与多个光刻区域一一对应的多组初始光束至光栅掩膜，并将每组初始光束投射至每组初始光束对应的掩膜区域进行衍射，以衍射形成投射至光刻胶层上的多组曝光光束；显影组件，用于对曝光后的光刻胶层进行显影处理，得到具有设定光栅结构分布的光刻结构。如此，简化了变参数以及变形貌的混合光栅制备工艺，使得混合光栅可以大批量且低成本地量产。

本实用新型混合光栅制备装置在权利要求书中公布了：1.一种混合光栅制备装置，其特征在于，所述混合光栅制备装置包括： 光刻基底，所述光刻基底用于承载光刻胶层； 光栅掩膜，所述光栅掩膜包括针对所述光刻胶层划分的多个光刻区域设置的多个掩膜区域，所述多个掩膜区域与所述多个光刻区域一一对应，每个所述掩膜区域的光栅参数与每个所述掩膜区域对应的光刻区域的目标曝光参数匹配，所述多个光刻区域中至少部分光刻区域上的目标曝光参数与其他光刻区域上的目标曝光参数不同； 曝光组件，所述曝光组件用于出射与所述多个光刻区域一一对应的多组初始光束至所述光栅掩膜，并将每组所述初始光束投射至每组所述初始光束对应的掩膜区域进行衍射，以衍射形成投射至所述光刻胶层上的多组曝光光束，所述多组曝光光束与所述多个光刻区域一一对应，且每组所述曝光光束具有每组所述曝光光束对应的光刻区域的目标曝光参数； 显影组件，所述显影组件用于容置显影液以及曝光后的所述光刻胶层，以利用所述显影液对曝光后的所述光刻胶层进行显影处理，得到具有设定光栅结构分布的光刻结构，所述多个光刻区域中至少部分光刻区域的光栅结构与其他光刻区域的光栅结构不同。

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