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龙图腾网获悉无锡市金义博仪器科技有限公司申请的专利一种光谱仪光学薄膜厚度检测系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120008490B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510277456.0，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权一种光谱仪光学薄膜厚度检测系统及方法是由张寒;叶反修;杨鹏程;叶春晖设计研发完成，并于2025-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光谱仪光学薄膜厚度检测系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光谱仪光学薄膜厚度检测系统及方法，涉及薄膜厚度检测技术领域，解决了现有技术中，无法结合光学薄膜所在光学器件的运行状态进行厚度测量检测，以至于无法确定是否执行复检的技术问题，具体为光学器件影响分析单元根据实时光学薄膜测量厚度与光学器件运行影响进行同步分析，采集适配检测信息和非适配检测信息，根据信息比对推断当前检测主体的厚度检测是否存在异常；厚度检测误差分析单元对检测主体的厚度检测过程进行误差分析，采集环境参数和发射参数，根据参数分析推断检测环境是否存在风险；对检测主体的厚度检测过程进行误差分析，推断当前厚度检测是否存在影响，以便于提高厚度检测数值偏差的原因排查效率。

本发明授权一种光谱仪光学薄膜厚度检测系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种光谱仪光学薄膜厚度检测系统，其特征在于，包括薄膜检测平台，其中薄膜检测平台通讯连接有光谱仪器选择单元、材料特性影响分析单元、光学器件影响分析单元以及厚度检测误差分析单元； 光谱仪器选择单元对光学薄膜检测的光谱仪器进行类型分析，设定检测设备和检测主体，采集检测供应数据和检测满足数据，根据数据比对推断当前检测设备是否适配，是，则进行使用，否，则进行重新选择类型； 材料特性影响分析单元对检测主体进行材料特性影响分析，采集特性影响信息和采集误差信息，根据信息分析推断检测主体的材料特性是否存在影响，是，则重选检测设备，否，则执行厚度检测； 光学器件影响分析单元根据实时光学薄膜测量厚度与光学器件运行影响进行同步分析，设定用膜主体，且分为适配主体和非适配主体，采集适配检测信息和非适配检测信息，根据信息比对推断当前检测主体的厚度检测是否存在异常； 厚度检测误差分析单元对检测主体的厚度检测过程进行误差分析，采集环境参数和发射参数，根据参数分析推断检测环境是否存在风险，是，则进行复检调控，否，则正常复检。

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