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龙图腾网获悉南京工业大学申请的专利一种基于相分离技术的混合多级全光谱高效吸收体的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119805635B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411596821.6，技术领域涉及：G02B5/00；该发明授权一种基于相分离技术的混合多级全光谱高效吸收体的制备方法是由李旸;李佼艳;寇佳慧;陆春华设计研发完成，并于2024-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于相分离技术的混合多级全光谱高效吸收体的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于相分离技术制备混合多级等离激元共振腔的方法，包括以下步骤：对衬底进行清洗，在基底表面电子束蒸镀反射层旋涂高分子层和二氧化硅层，随后涂覆相分离共混薄膜，再通过反应离子刻蚀技术进行选择性刻蚀继而传递到下层结构，共混物随着氧气的刻蚀，PPSQ柱子暴露出来，高浓度共混物内部包裹着些许小液滴，随着刻蚀时间的增加，残余层形成带纳米孔洞的薄膜，小柱子随之刻蚀出来，获得混合多级多尺寸结构，随后经过电子束蒸镀技术在上述模板上蒸镀金层，得到混合多级多尺寸等离激元共振腔。本发明提供的混合多级共振腔具有高太阳光吸收，同时具备制备方法简单性能稳定可大面积生产等优点，并且可以复合光催化剂提升光催化产氢性能，提供更多的催化位点，提高太阳光利用率。本发明将多级宽带等离激元共振腔应用于太阳光光催化产氢的研究中，具有十分重要的意义。

本发明授权一种基于相分离技术的混合多级全光谱高效吸收体的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种基于相分离技术制备混合多级等离激元共振腔的方法，其具体步骤如下： a基底清洗：将玻璃基底放入乙醇溶液中超声清洗，最后用去离子水清洗，氮气吹干，放在热板上烘干； b沉积金属层：利用电子束蒸镀或电阻蒸镀技术在基片上沉积反射金属层；其中，步骤b中所述的金属层为金、银或铝；其厚度为50-100nm； c在沉积反射金属层的表面旋涂不含硅高分子的有机溶液，固化后获得不含硅高分子层；其中，步骤c中所述的不含硅高分子的有机溶液为聚甲基丙烯酸甲酯的氯苯溶液，质量浓度为1%~5%；不含硅高分子层的厚度为100-500nm； d在不含硅高分子层上沉积一层SiO2薄膜，沉积的SiO2层的厚度为15-40nm； e将聚苯乙烯和含硅聚合物溶解于有机溶剂中，搅拌，形成共混相分离溶液，步骤e中所述的有机溶剂为甲苯或氯苯；所述的含硅聚合物为聚苯基倍半硅氧烷；聚苯乙烯和含硅聚合物的质量比为1-5：1；共混相分离溶液的质量总浓度为2-10%； f将共混相分离溶液旋涂在步骤d制得的衬底上，得到相分离共混薄膜； g利用反应离子刻蚀技术对相分离共混薄膜进行选择性刻蚀，在基片衬底表面形成非连续性的混合多级结构模板； h利用电子束蒸镀技术在模板表面蒸镀一层金。

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