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龙图腾网获悉广东工业大学申请的专利基于概率最优的单像素成像压缩采样方法、介质及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119743603B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411850124.9，技术领域涉及：H04N19/132；该发明授权基于概率最优的单像素成像压缩采样方法、介质及装置是由何昭水;苏文青;谈季;贺笑汝;王政忠设计研发完成，并于2024-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于概率最优的单像素成像压缩采样方法、介质及装置在说明书摘要公布了：本公开提供了一种基于概率最优的单像素成像压缩采样方法、介质及装置，包括：获取给定特定图像数据集中所有图像的频谱数据集；对每个频谱图按照强度值进行排序，取前α％强度的像素位置作为频谱强度掩膜图；将数据集中所有图像对应的频谱强度掩膜图累加构造概率矩阵，并取该概率矩阵中前α％位置的数值作为最大后验概率采样分布掩膜Msum；根据采样分布掩膜Msum选取对应的编码图像进行编码光投影；对投影的编码图像进行采样，进行图像重建。本公开根据概率统计原理，求取频谱图中强度更大位置的概率，并将其作为采样依据，能够保证欠采样条件下获取更多有效信息，显著提高欠采样图像重建质量。

本发明授权基于概率最优的单像素成像压缩采样方法、介质及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于概率最优的单像素成像压缩采样方法，其特征在于，包括以下步骤： 给定特定数据集，对所述特定数据集进行二维傅里叶变换获取频谱数据集和频谱图； 对任一频谱图统计概率，求得频谱强度掩膜图； 利用所述频谱强度掩膜图构造概率矩阵； 根据所述概率矩阵，获取最大后验概率采样分布掩膜； 根据所述采样分布掩膜选取对应的编码图像进行编码光投影，得到投影后的编码图像； 对所述投影后的编码图像进行采样，得到采样数据；并利用采样数据进行图像重建； 所述对任一频谱图统计概率，求得频谱强度掩膜图，包括： 设给定采样率α%，对频谱数据集IF中任一张频谱图做如下操作： 对所有元素按照强度值降序排序，得到频谱排序图Iorder，取排序前α%个元素作为掩膜M： ； 其中，频谱图像的尺寸为m×n; 利用所述频谱强度掩膜图构造概率矩阵，包括： 对所有频谱获取对应的强度掩膜后，将k张掩膜累加得到的结果定义为频谱强度前α%概率矩阵： ; 其中，Mc代表第c张掩膜,c=1，2，3……,k；Pα中每个元素代表该位置的频谱强度在k张掩膜中统计出现的概率；频谱图像的尺寸为m×n; 根据所述概率矩阵，获取最大后验概率采样分布掩膜，包括： 构造集合ΩPα，其满足x,y∈ΩPα，当且仅当Pxy在Pα所有m×n个元素中位于前α%分位数，此时定义采样分布掩膜为： ； 其中，α为采样率；NaN表示空值；Pxy表示概率矩阵中坐标为x,y处的概率值；Pxya表示概率矩阵中概率大小位于前α%分位数内的坐标x,y处的概率值；频谱图像的尺寸为m×n。

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