光科芯图(北京)科技有限公司和琨获国家专利权
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龙图腾网获悉光科芯图(北京)科技有限公司申请的专利全息掩模成像数据及全息掩模透射率的确定方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118169972B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311639147.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权全息掩模成像数据及全息掩模透射率的确定方法是由和琨;牛志元;韦炳威;魏建业;菅彦彬设计研发完成，并于2023-12-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本全息掩模成像数据及全息掩模透射率的确定方法在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路制造技术领域，公开了一种全息掩模成像数据及全息掩模透射率的确定方法。其中，全息掩模成像数据的确定方法包括：获取针对于全息掩模的重建光数据、透射率；基于重建光数据与透射率生成第一光波场数据；按照预设采样间隔分别对第一光波场数据和预设的第一衍射传递数据进行采样处理，得到对应于第一光波场数据的第一光波场离散数据，以及对应于第一衍射传递数据的第一目标衍射传递数据；基于以第一矩阵表征的第一光波场离散数据以及以第二矩阵表征的第一目标衍射传递数据之间的卷积结果，确定全息掩模成像数据。通过实施本发明技术方案，提高了全息掩模成像数据的确定效率。
本发明授权全息掩模成像数据及全息掩模透射率的确定方法在权利要求书中公布了：1.一种全息掩模成像数据的确定方法，其特征在于，包括： 获取针对于全息掩模的重建光数据、透射率； 基于所述重建光数据与所述透射率生成第一光波场数据； 按照预设采样间隔分别对所述第一光波场数据和预设的第一衍射传递数据进行采样处理，得到对应于所述第一光波场数据的第一光波场离散数据，以及对应于所述第一衍射传递数据的第一目标衍射传递数据； 基于以第一矩阵表征的第一光波场离散数据以及以第二矩阵表征的第一目标衍射传递数据之间的卷积结果，确定全息掩模成像数据。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人光科芯图(北京)科技有限公司，其通讯地址为：102399 北京市大兴区荣华中路22号院1号楼31层3101；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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