光科芯图(北京)科技有限公司谢稳获国家专利权
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龙图腾网获悉光科芯图(北京)科技有限公司申请的专利光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118169969B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211579191.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质是由谢稳;牛志元;丛敏;程智;秦宏鹏;王凯诚设计研发完成，并于2022-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质在说明书摘要公布了：本申请提供了一种光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质，其中，该方法包括：获取由全息成像生成的干涉图样或对掩膜进行调整后的目标掩膜；根据所述干涉图样或所述目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度；根据所述光照强度生成对应的线条变化图，其中，所述线条变化图用于表征光学信号；根据所述线条变化图确定对准点，并将所述对准点对应的当前掩膜的第一位置信息和当前硅片的第二位置信息作为光源对准的约束条件。通过本申请，解决了相关技术中存在的引入额外对准系统导致的成本过高、系统较复杂且稳定性不足致使对准不精确的问题。
本发明授权光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光源对准的确定方法，其特征在于，所述方法包括： 获取对掩膜进行调整后的目标掩膜，其中，所述掩膜为全息掩膜； 根据所述目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度，其中，所述根据所述目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度，包括：利用所述目标掩膜，使得光源通过所述目标掩膜照射到所述光栅之后，透过所述光栅生成信号为一次函数的所述光照强度； 根据所述光照强度生成对应的线条变化图，其中，所述线条变化图用于表征光学信号； 根据所述线条变化图确定对准点，并将所述对准点对应的当前掩膜的第一位置信息和当前硅片的第二位置信息作为光源对准的约束条件。
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