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龙图腾网获悉深圳市矩阵多元科技有限公司申请的专利等离子体工艺处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116053107B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310074779.0，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体工艺处理装置是由张晓军;邵寿濳;朱新华;龚文志设计研发完成，并于2023-01-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体工艺处理装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种等离子体工艺处理装置。该装置包括：射频电源，射频电源用于提供射频信号；真空腔体，真空腔体内设有第一电极板和第二电极板，第一电极板用于与射频电源电连接；真空腔体的第一目标腔壁用于与地端电连接；第二电极板与第一目标腔壁间隔设置以形成夹层；其中，第二电极板至少包括第一子电极板和第二子电极板；调节层，第一子调节层设置于第一子电极板与第一目标腔壁之间的夹层，第二子调节层设置于第二子电极板与第一目标腔壁之间的夹层，第一子调节层用于调节第一子电极板与第一目标腔壁之间的电容量，第二子调节层用于调节第二子电极板与第一目标腔壁之间的电容量。本申请实施例能够提高电极板等离子体的均一性。

本发明授权等离子体工艺处理装置在权利要求书中公布了：1.等离子体工艺处理装置，其特征在于，包括： 射频电源，所述射频电源用于提供射频信号； 真空腔体，所述真空腔体内设有第一电极板和第二电极板，所述第一电极板用于与所述射频电源电连接，所述第二电极板与所述第一电极板平行设置；所述真空腔体的第一目标腔壁用于与地端电连接，所述第一目标腔壁为真空腔壁中靠近所述第二电极板的腔壁；所述第二电极板与所述第一目标腔壁间隔设置以形成夹层；其中，所述第二电极板至少包括第一子电极板和第二子电极板； 调节层，所述调节层至少包括第一子调节层和第二子调节层，所述第一子调节层设置于所述第一子电极板与所述第一目标腔壁之间的夹层，所述第二子调节层设置于所述第二子电极板与所述第一目标腔壁之间的夹层，所述第一子调节层用于调节所述第一子电极板与所述第一目标腔壁之间的电容量，所述第二子调节层用于调节所述第二子电极板与所述第一目标腔壁之间的电容量； 其中，第一子调节层包括第一绝缘层，所述第一绝缘层的材料为第一绝缘材料；所述第二子调节层包括第二绝缘层，所述第二绝缘层的材料为第二绝缘材料；所述第一绝缘材料与所述第二绝缘材料不同； 所述第二电极板还包括第三子电极板，所述第三子电极板与所述第二子电极板呈夹角设置，所述调节层还包括第三子调节层和第四子调节层，所述第三子调节层设置于所述第三子电极板与所述第一目标腔壁之间的夹层，所述第四子调节层设置于所述第三子电极板与第二目标腔壁之间的夹层，所述第三子调节层用于调节所述第三子电极板与所述第一目标腔壁之间的电容量，所述第四子调节层用于调节所述第三子电极板与所述第二目标腔壁之间的电容量，所述第二目标腔壁为真空腔壁中与所述第一目标腔壁呈夹角设置的腔壁，通过第三子调节层和第四子调节层实现对第三子电极板对地阻抗的调节，从而实现第三子电极板、第二子电极板、第一子电极板等离子密度的趋等，进而实现第二电极板等离子密度的均一性。

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