卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司T·格鲁纳获国家专利权
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龙图腾网获悉卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司申请的专利反射镜、特别是用于微光刻投射曝光设备的反射镜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115997170B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080104190.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权反射镜、特别是用于微光刻投射曝光设备的反射镜是由T·格鲁纳;N·巴尔;K·范伯克尔;L·J·A·范博克霍文;M·洛伦兹;T·蒙兹;E·施奈德;H-M·斯蒂潘;B·斯特里夫柯克设计研发完成，并于2020-08-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本反射镜、特别是用于微光刻投射曝光设备的反射镜在说明书摘要公布了：本发明关于反射镜，特别是用于微光刻投射曝光设备。本发明的反射镜具有光学有效表面101,201,301；反射镜基板110,210,310,410；反射层系统120,220,320，其用以反射入射在光学有效表面101,201,301上的电磁辐射；至少一个致动器层，其配置为在反射层系统120,220,320上传输可调整机械力，由此产生光学有效表面101,201,301的局部可变变形；以及至少一个冷却装置，其配置为至少部分地消散由该致动器层所产生的热。
本发明授权反射镜、特别是用于微光刻投射曝光设备的反射镜在权利要求书中公布了：1.一种反射镜，其中该反射镜具有光学有效表面，具有： 反射镜基板110,210,310,410； 反射层系统120,220,320，用以反射入射在该光学有效表面101,201,301上的电磁辐射； 至少一个致动器层，其配置为在该反射层系统120,220,320上传输可调整机械力，由此产生该光学有效表面101,201,301的局部可变变形； 至少一个冷却装置，其配置为至少部分地消散由该致动器层所产生的热；以及 分段加热配置，其配置为热诱导该光学有效表面301的局部可变变形。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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