雷居瓦泰克医疗公司T·N·特纳获国家专利权
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龙图腾网获悉雷居瓦泰克医疗公司申请的专利通过图案化经表皮色素释放去除纹身的模板和方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115151297B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080095691.1,技术领域涉及:A61M37/00;该发明授权通过图案化经表皮色素释放去除纹身的模板和方法是由T·N·特纳;J·H·萨维奇;J·J·I·威尔基;G·D·尼文设计研发完成,并于2020-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本通过图案化经表皮色素释放去除纹身的模板和方法在说明书摘要公布了:通过图案化经表皮色素释放去除纹身的方法的实施例包含:通过包含初级孔径的初级模板确定患者皮肤的第一处理区域;沿初级孔径的边界标记患者皮肤的第一处理区域,以勾勒出初级被膜的网格;以及向标记的第一暴露皮肤递送纹身去除流体。在替代实施例中,在破坏过程期间使用可粘附在皮肤上的模板来创建结构化的图案化程序以去除皮肤不规则体。模板具有多个针孔径、粘合剂层和释放衬垫。释放衬垫可以被去除,以暴露粘合剂层,使得具有多个针孔径的模板可以定位在皮肤不规则体之上。
本发明授权通过图案化经表皮色素释放去除纹身的模板和方法在权利要求书中公布了:1.一种用于去除纹身眉毛的系统,所述系统包括: 初级模板,其包括将所述初级模板的头部和所述初级模板的尾部平分的弯曲弧线并且包括初级孔径,所述初级模板确定患者皮肤的第一处理区域,所述初级模板被固定在所述患者皮肤上,并且沿所述初级孔径的边界标记患者皮肤的第一处理区域以勾勒出初级被膜,并且所述初级模板适于用于在第一处理阶段中破坏所述初级被膜中的组织以形成焦痂; 次级模板,其包括次级孔径,用于标记包括插入所述初级被膜之间的次级被膜的皮肤的第二处理区域,所述次级模板适于用于在第二处理阶段中破坏所述次级被膜中的所述组织; 其中所述初级孔径中的至少一个是锥形的,使得初级孔径的条纹图案沿着所述初级模板的所述弯曲弧线弯曲。
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