浙江驰拓科技有限公司迟克群获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江驰拓科技有限公司申请的专利自旋存储单元以及存储器获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114695646B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011569976.2,技术领域涉及:H10B61/00;该发明授权自旋存储单元以及存储器是由迟克群;石以诺;李州;张文彪;孟皓设计研发完成,并于2020-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本自旋存储单元以及存储器在说明书摘要公布了:本发明提供一种自旋存储单元,包括:自旋轨道矩提供层;第一偏置层,形成在所述自旋轨道矩提供层上;所述第一偏置层用于提供第一偏置磁场;第二偏置层,形成在所述第一偏置层上;所述第二偏置层用于提供第二偏置磁场;磁隧道结叠层结构,形成在所述第二偏置层上;所述磁隧道结叠层结构的自由层和参考层的磁化方向与所述第一偏置层和所述第二偏置层的磁化方向垂直。本发明能够通过第一偏置层的磁化方向的改变,使偏置磁场具有两种不同的状态,两种状态下的偏置磁场分别用于STT‑MRAM降低读写功耗和提高非易失性。
本发明授权自旋存储单元以及存储器在权利要求书中公布了:1.一种自旋存储单元,其特征在于,包括: 自旋轨道矩提供层; 第一偏置层,形成在所述自旋轨道矩提供层上;所述第一偏置层用于提供第一偏置磁场; 第二偏置层,形成在所述第一偏置层上;所述第二偏置层用于提供第二偏置磁场; 磁隧道结叠层结构,形成在所述第二偏置层上; 所述磁隧道结叠层结构的自由层和参考层的磁化方向与所述第一偏置层和所述第二偏置层的磁化方向垂直; 其中,当第一偏置层和第二偏置层的磁化方向平行时,第一偏置层和第二偏置层的偏置磁场叠加,以使磁隧道结叠层结构的翻转效率提高;当第一偏置层和第二偏置层的磁化方向反平行时,第一偏置层的偏置磁场和第二偏置层的偏置磁场相互抵消,总的偏置磁场接近于0,以增强磁隧道结叠层结构的非易失性。
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