东京毅力科创株式会社稻叶翔吾获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112684663B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011078255.1，技术领域涉及：G03F7/16；该发明授权基片处理装置是由稻叶翔吾设计研发完成，并于2020-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基片处理装置，其在一个方面包括：收纳基片的处理室；能够保持基片并使之旋转的旋转保持部；对旋转保持部所保持的基片的表面供给处理液的处理液供给部；排气部，其从设置于比旋转保持部所保持的基片的外周靠外侧的位置的排气口，将处理室内的气体排出；板，其以在旋转保持部所保持的基片的周向上的一部分于表面相对，且在该基片的周向上的其他部分不与表面相对的方式配置在处理室内；和板配置部，其能够切换第一状态和第二状态，其中，第一状态是板在一部分与表面相对的状态，第二状态是板位于比第一状态离开表面的位置的状态。根据本发明，在进行需要板的液处理和不需要板的液处理中，能够降低板未使用时对液处理结果的影响。
本发明授权基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 收纳基片的处理室； 能够保持所述处理室内的所述基片并使之旋转的旋转保持部； 对所述旋转保持部所保持的所述基片的表面供给处理液的处理液供给部； 排气部，其从设置于比所述旋转保持部所保持的所述基片的外周靠外侧的位置的排气口，将所述处理室内的气体排出； 板，其以在所述旋转保持部所保持的所述基片的周向上的一部分与所述表面相对，且在该基片的周向上的其他部分不与所述表面相对的方式配置在所述处理室内；和 板配置部，其能够切换第一状态和第二状态，其中，所述第一状态是所述板在所述一部分与所述表面相对的状态，所述第二状态是所述板位于比所述第一状态离开所述表面的位置的状态， 所述板配置部能够使所述板相对于所述表面倾斜，使得在所述第二状态下所述板比所述第一状态离开所述表面。
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