安徽四象半导体材料科技有限公司崔健获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽四象半导体材料科技有限公司申请的专利蚀刻用外沿环及静电吸盘组件获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223501807U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422891651.6，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型蚀刻用外沿环及静电吸盘组件是由崔健;许赞;朴永哲设计研发完成，并于2024-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本蚀刻用外沿环及静电吸盘组件在说明书摘要公布了：本实用新型的技术方案提供一种蚀刻用外沿环为以中心轴为轴的回转体，内环面自第一端面始具有轴向延伸的基环面；于基环面相对于第一端面的另一侧形成向环内高出的第一台阶部，第一台阶部包括环状的第一台阶面以及接合第一台阶面与基环面的第一侧面；于第一台阶部相对于第一端面的另一侧形成向环外凹陷的第二台阶部，第二台阶部包括环状的第二台阶面以及接合第二台阶面与第一台阶面的第二底面，第二台阶面接合第二端且不低于被蚀刻的晶圆的顶面。蚀刻用外沿环实现了对限定环与静电吸盘之间的良好定位与连接，保证了对静电吸盘的边缘侧面的有效防护，避免了蚀刻过程对晶圆边缘的过度腐蚀，降低了晶圆表面的蚀刻不均匀程度。
本实用新型蚀刻用外沿环及静电吸盘组件在权利要求书中公布了：1.一种蚀刻用外沿环，为以中心轴O为轴的回转体，呈环状，具有第一端面114、第二端面115以及内环面11，其特征在于，内环面11自第一端面114始具有轴向延伸的基环面111；于基环面111沿轴向相对于第一端面114的另一侧形成径向向环内高出第一台阶部112，第一台阶部112包括环状的第一台阶面1122以及接合第一台阶面1122与基环面111的第一侧面1121；于第一台阶部112相对于第一端面114的另一侧形成有径向向环外凹陷的第二台阶部113，第二台阶部113包括环状的第二台阶面1132以及接合第二台阶面1132与第一台阶面1122的第二底面1131，第二台阶面1132接合第二端面115；第二端面115高度不低于被蚀刻的晶圆3的顶面。
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