肇庆微纳芯材料科技有限公司杨志锋获国家专利权
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龙图腾网获悉肇庆微纳芯材料科技有限公司申请的专利一种铜蚀刻液及其制备方法与玻璃基板铜的蚀刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115786916B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211649155.9，技术领域涉及：C23F1/18；该发明授权一种铜蚀刻液及其制备方法与玻璃基板铜的蚀刻方法是由杨志锋;何剑明;宋振设计研发完成，并于2022-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种铜蚀刻液及其制备方法与玻璃基板铜的蚀刻方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种铜蚀刻液及其制备方法与玻璃基板铜的蚀刻方法，属于半导体显示技术领域。按质量百分数计，该铜蚀刻液的组分包括1‑15％的无机酸、4‑10％的过氧化物、4‑10％有机酸和或其盐、0.5‑5.0％螯合剂、0.05‑0.5％的蚀刻控制剂、0.1‑0.5％的表面活性剂及0.1‑1.0％的稳定剂，余量为水；有机酸包括第一有机酸和第二有机酸；其中，第一有机酸与铜的稳定常数lgβn≤10，第二有机酸与铜的稳定常数lgβn为14‑20。该铜蚀刻液尤其适用于4‑10μm厚铜的蚀刻，不但可获得符合要求的蚀刻形貌，而且还可有效控制蚀刻速率、及图案的关键尺寸损失，并且蚀刻容量大，具有较广阔的应用前景。
本发明授权一种铜蚀刻液及其制备方法与玻璃基板铜的蚀刻方法在权利要求书中公布了：1.一种铜蚀刻液的应用，其特征在于，所述铜蚀刻液用于对玻璃基板上的铜进行蚀刻；待蚀刻的铜的厚度为4-10μm； 按质量百分数计，所述铜蚀刻液的组分包括1-15%的无机酸、4-10%的过氧化物、4-10%有机酸和或其盐、0.5-5.0%螯合剂、0.05-0.5%的蚀刻控制剂、0.1-0.5%的表面活性剂以及0.1-1.0%的稳定剂，余量为水； 所述有机酸由第一有机酸和第二有机酸组成；其中，所述第一有机酸选自乳酸、乙二酸和酒石酸中的至少一种；所述第二有机酸选自谷氨酸、亚氨基二乙酸和乙二胺四乙酸中的至少一种； 所述无机酸为磷酸；所述过氧化物为双氧水；所述螯合剂为三乙醇胺； 所述蚀刻控制剂选自5-甲基四氮唑和5-氨基四氮唑中的至少一种； 所述表面活性剂选自PE6100、PE6200以及PE8100中的至少一种； 所述稳定剂为苯基脲。
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