武汉华星光电技术有限公司程薇获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电技术有限公司申请的专利防窥膜及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115494660B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211077855.5，技术领域涉及：G02F1/13；该发明授权防窥膜及显示装置是由程薇设计研发完成，并于2022-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本防窥膜及显示装置在说明书摘要公布了：本申请公开一种防窥膜及显示装置，其中防窥膜包括：第一基板；第二基板；液晶层，液晶层设置在第一基板和第二基板之间；第一电极；第二电极，第二电极和第一电极设在液晶层的同一侧或者不同侧，第二电极和第一电极中的至少一者包括条状电极；其中，在第一模式下，第二电极和第一电极未施加电压，液晶层的液晶分子具有预倾角，防窥膜处于防窥状态；在第二模式下，第二电极和第一电极施加电压，液晶层对垂直于第一基板所在平面的入射光进行衍射，防窥膜处于分享状态。本申请利用液晶衍射特性形成防窥装置，相对于基于液晶电控双折射特性的防窥显示设备具有制作工艺要求低且成本低的优点，同时本申请的防窥膜具有更好可靠性。
本发明授权防窥膜及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种防窥膜，其特征在于，包括： 第一基板； 第二基板； 液晶层，所述液晶层设置在所述第一基板和所述第二基板之间； 所述液晶层包括聚合物网络以及分布于所述聚合物网络中的液晶分子； 第一电极； 第二电极，所述第二电极和所述第一电极设在所述液晶层的同一侧或者不同侧，所述第二电极和所述第一电极中的至少一者包括条状电极； 其中，在第一模式下，所述第二电极和所述第一电极未施加电压，所述液晶层的所述液晶分子具有预倾角，所述防窥膜处于防窥状态；在第二模式下，所述第二电极和所述第一电极施加电压，所述液晶层对垂直于所述第一基板所在平面的入射光进行衍射，所述防窥膜处于分享状态； 在所述第一模式下，所述预倾角大于零度且小于或等于15度； 所述液晶层中的所述液晶分子的电学各向异性大于或等于7且小于或等于15.2； 所述液晶层中的液晶分子的光学各向异性大于或等于2且小于或等于3。
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