福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司李梁梁获国家专利权
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龙图腾网获悉福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利阵列基板及其制备方法、显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114530456B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011231084.1，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权阵列基板及其制备方法、显示面板是由李梁梁;伍蓉;刘正设计研发完成，并于2020-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及其制备方法、显示面板在说明书摘要公布了：本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示面板中的遮光结构的遮光性能差而导致漏光的问题。本发明的一种阵列基板，具有多个像素区以及位于任意相邻两像素区之间的遮光区，阵列基板包括：衬底；多个彩膜层，设置于衬底上并且至少部分位于像素区；多个第一电极层，设置于彩膜层远离衬底的一侧，并且位于像素区，第一电极层为透明电极层；遮光膜，设置于任意相邻两第一电极层之间，遮光膜为不透光膜层。
本发明授权阵列基板及其制备方法、显示面板在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，具有多个像素区以及位于任意相邻两像素区之间的遮光区，所述阵列基板包括： 衬底； 多个彩膜层，设置于所述衬底上并且至少部分位于所述像素区； 多个第一电极层，设置于所述彩膜层远离所述衬底的一侧，并且位于所述像素区，所述第一电极层为透明电极层； 遮光膜，设置于任意相邻两所述第一电极层之间，所述遮光膜为不透光膜层； 所述彩膜层与所述像素区一一对应，任意相邻两彩膜层的颜色不同，每个所述彩膜层延伸至相邻的所述遮光区中，以使任意相邻两彩膜层在相邻的遮光区交叠； 所述第一电极层与所述像素区一一对应； 所述阵列基板还包括：多个第二电极层，设置于所述衬底上并且至少部分位于所述遮光区，所述第二电极层在所述衬底上的正投影与相邻的所述像素区对应的第一电极层在所述衬底上的正投影交叠； 所述阵列基板为液晶显示阵列基板，所述第一电极层和所述第二电极层之间的交叠区域产生电场，该电场能够控制该区域的液晶分子的偏转，以使该区域的液晶分子能够形成遮光结构； 所述遮光膜的厚度为400Å-1000Å； 所述遮光膜的材料包括氧化钼。
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