株式会社迪思科健辅长冈获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社迪思科申请的专利处理基板的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114078696B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110908513.2，技术领域涉及：H01L21/301；该发明授权处理基板的方法是由健辅长冈;泰吉汤平设计研发完成，并于2021-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本处理基板的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种处理基板的方法，基板在一侧上具有带有多个器件的器件区域。该方法包括提供第一保护膜；提供第二保护膜；将第一保护膜附接至基板的一侧，使得第一保护膜的前表面的至少中心区域与基板的一侧直接接触；以及将第二保护膜附接至基板的与一侧相反的侧。在将第二保护膜附接至基板的与一侧相反的侧之后，将激光束从基板的与一侧相反的侧施用至基板。基板由对激光束透明的材料制成。第二保护膜由对激光束透明的材料制成。在多个位置中将激光束施用至基板以便在基板中形成多个改性区域。
本发明授权处理基板的方法在权利要求书中公布了：1.一种处理基板W的方法，所述基板在一侧2上具有带有多个器件8的器件区域6，其中，所述方法包括： 提供第一保护膜22； 提供第二保护膜14； 将所述第一保护膜22附接至所述基板W的所述一侧2，使得所述第一保护膜22的前表面24的至少中心区域与所述基板W的所述一侧2直接接触； 在将所述第一保护膜22附接至所述基板W的所述一侧2之后，将具有附接至其上的所述第一保护膜22的所述基板放置在支承件上； 将所述第二保护膜14附接至所述基板W的与所述一侧2相反的侧4；以及 在将所述第二保护膜14附接至所述基板W的与所述一侧2相反的所述侧4之后，将激光束LB从所述基板W的与所述一侧2相反的所述侧4施用至所述基板W，其中 所述基板W由对所述激光束LB透明的材料制成， 所述第二保护膜14由对所述激光束LB透明的材料制成，以及 在多个位置中将所述激光束LB施用至所述基板W、以便在所述基板W中形成多个改性区域。
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