东京毅力科创株式会社舆水地盐获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置及等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113948361B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110742787.9，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置及等离子体处理方法是由舆水地盐设计研发完成，并于2021-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置及等离子体处理方法在说明书摘要公布了：所公开的等离子体处理装置具备腔室、基板支承器、等离子体生成部、第1电源及第2电源。基板支承器具有下部电极，并且设置于腔室内。第1电源构成为产生电偏置，并且与下部电极电连接。第2电源构成为：在从第1电源输出至下部电极的电偏置在其周期内具有该电偏置的平均电位以上的电位的整个期间中的一部分的第1期间内，向部件施加正的电压。部件配置成暴露于在腔室内生成的等离子体中。第1电源构成为在第1期间之后的第2期间内将具有正的电位的电偏置输出至下部电极。
本发明授权等离子体处理装置及等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其具备： 腔室； 基板支承器，具有下部电极，并且设置于所述腔室内； 等离子体生成部，构成为在所述腔室内由气体生成等离子体； 第1电源，构成为产生电偏置，并且与所述下部电极电连接；及 第2电源，构成为向暴露于在所述腔室内生成的等离子体中的部件施加正的电压， 所述第2电源构成为：在从所述第1电源输出至所述下部电极的所述电偏置在其周期内具有该电偏置的平均电位以上的电位的整个期间中的一部分的第1期间内，向所述部件施加所述正的电压， 所述第1电源构成为遍及所述第1期间之后的第2期间将维持正的电位的所述电偏置输出至所述下部电极。
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