艾克斯特朗欧洲公司P.S.劳弗获国家专利权
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龙图腾网获悉艾克斯特朗欧洲公司申请的专利具有用于局部影响基座温度的器件的CVD反应器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113454264B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080015173.4，技术领域涉及：C23C16/46；该发明授权具有用于局部影响基座温度的器件的CVD反应器是由P.S.劳弗设计研发完成，并于2020-02-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有用于局部影响基座温度的器件的CVD反应器在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于对基材进行热处理的设备和方法，设备具有可由加热装置13加热的和可由转动驱动器20围绕转动轴线A转动驱动的用于容纳至少一个基材的基座5。为了补偿转动的基座5上的局部的温度差异，设置有器件14、14’、15、16，所述器件用于局部限制从或到基座5的热传输，并且与基座5的转动运动同步地影响热传输。尤其规定，通过馈入开口14’以脉冲方式周期性地将具有变化的导热特性的调温气体馈入基座5和冷却机组30之间的间隙10中。
本发明授权具有用于局部影响基座温度的器件的CVD反应器在权利要求书中公布了：1.一种用于对基材进行热处理的方法，其中，基座5承载至少一个基材，由加热装置加热，并且围绕转动轴线A被转动驱动，其中，在被局部限制在围绕转动轴线A的方位角度范围内的热影响区17中，所述基座5的温度被影响，其中，在所述热影响区17中，布置在基座5和调温机组之间的介质的导热特性影响所述基座5的温度，其中，与基座5的转动运动同步化地、以脉冲方式改变布置在基座5和调温机组之间的介质的导热特性，使得在基座5的各个旋转过程中，始终对该基座5的相同部位进行热量的输入和排放。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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