东京毅力科创株式会社舆水地盐获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利检查方法、检查装置及等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113410115B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110235492.2，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权检查方法、检查装置及等离子体处理装置是由舆水地盐设计研发完成，并于2021-03-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本检查方法、检查装置及等离子体处理装置在说明书摘要公布了：在本发明的检查方法中，基板及边缘环分别载置于等离子体处理装置的基板支承器的第1区域及第2区域上。第1检查电路与基板连接。第1检查电路具有阻抗。第2检查电路与边缘环连接。第2检查电路具有阻抗。具有相同的频率的第1电偏置及第2电偏置被施加到第1区域内的第1电极及第2区域内的第2电极。通过波形监视器获取基板的电压波形及边缘环的电压波形。
本发明授权检查方法、检查装置及等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种检查方法，其包括如下工序： 将第1检查电路与载置于等离子体处理装置的基板支承器的第1区域上的基板连接的工序，该第1检查电路具有阻抗； 将第2检查电路与载置于所述基板支承器的第2区域上的边缘环连接的工序，该第2检查电路具有阻抗； 在所述第1检查电路与所述基板连接，所述第2检查电路与所述边缘环连接的状态下，从第1偏置电源及第2偏置电源向所述第1区域内的第1电极及所述第2区域内的第2电极分别施加第1电偏置及第2电偏置的工序，该第1电偏置及该第2电偏置具有相同的偏置频率；及 在执行施加第1电偏置及第2电偏置的所述工序的过程中，使用波形监视器获取所述基板的电压波形及所述边缘环的电压波形的工序， 所述第1偏置电源经由第1电路与所述第1电极连接， 所述第2偏置电源经由具有一个以上的可变电路元件的第2电路与所述第2电极连接， 所述检查方法还包括调整所述第2电路的阻抗的工序， 通过调整所述一个以上的可变电路元件的每一个的可变元件参数来调整所述第2电路的所述阻抗，以使在所述偏置频率下高于所述第1电路的阻抗，减小所述基板的所述电压波形与所述边缘环的所述电压波形之差。
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