东京毅力科创株式会社林大辅获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理系统和更换边缘环的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112687512B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011077814.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基片处理系统和更换边缘环的方法是由林大辅设计研发完成，并于2020-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理系统和更换边缘环的方法在说明书摘要公布了：本发明提供能够选择性地更换构成边缘环的两个环中的一者或两者的基片处理系统和更换边缘环的方法。例示的实施方式的基片处理系统包括处理单元、输送臂和更换单元。在处理单元中利用至少一个升降机构将边缘环从基片支承器升起。边缘环包括第一环和第二环。用输送臂在处理单元与更换单元之间输送边缘环。在更换单元中，边缘环的第一环和第二环中的一者或两者能够被替换为更换零件，从而能够准备已更换的边缘环。用输送臂在更换单元与处理单元之间输送已更换的蚀刻环。
本发明授权基片处理系统和更换边缘环的方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理系统，其特征在于，包括： 能够处理基片的处理单元，其包括：腔室；和基片支承器，其能够支承包含第一环和搭载在该第一环上的第二环的边缘环，能够在由所述边缘环包围的区域内支承载置在其上的基片，并具有能够同时升起所述第一环和所述第二环的至少一个升降机构； 能够输送所述边缘环的输送臂； 更换单元，所述边缘环的所述第一环和所述第二环中的一者或两者能够在该更换单元中被替换为对应的更换零件，从而能够准备已更换的边缘环；以及 能够控制所述至少一个升降机构和所述输送臂的控制部， 所述控制部控制所述至少一个升降机构以将所述边缘环从所述基片支承器升起， 所述控制部控制所述输送臂，以在所述处理单元与所述更换单元之间输送由所述至少一个升降机构升起了的所述边缘环，在所述更换单元与所述处理单元之间输送在所述更换单元内准备好的所述已更换的边缘环， 所述更换单元具有将所述第二环相对于所述第一环升起的其他升降机构。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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