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龙图腾网获悉度亘核芯光电技术(苏州)股份有限公司;苏州度亘垂腔芯片技术有限公司申请的专利高速垂直腔面发射激光器制备方法及高速垂直腔面发射激光器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120497756B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510999781.8，技术领域涉及：H01S5/183；该发明授权高速垂直腔面发射激光器制备方法及高速垂直腔面发射激光器是由唐松;惠利省设计研发完成，并于2025-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本高速垂直腔面发射激光器制备方法及高速垂直腔面发射激光器在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高速垂直腔面发射激光器制备方法及高速垂直腔面发射激光器，涉及激光器的技术领域，方法包括：提供外延结构，包括衬底、下布拉格反射镜和有源区，有源区的顶面具有第一区域，在第一区域上形成电流扩展层；衬底包括未被下布拉格反射镜覆盖的第二区域；在外延结构上形成第一介质膜；对电流扩展层上方的第一介质膜进行刻蚀得到第一窗口；对第二区域上方的第一介质膜进行刻蚀得到第二窗口；在第一窗口内形成第一电极；在第二窗口内形成第二电极；在第一电极上方设置上介质布拉格反射镜，其顶面形成多个向下延伸的光子晶体空气孔；且沿上介质布拉格反射镜的中心朝向其周向外侧的方向，光子晶体空气孔的深度逐渐增加。

本发明授权高速垂直腔面发射激光器制备方法及高速垂直腔面发射激光器在权利要求书中公布了：1.一种高速垂直腔面发射激光器制备方法，其特征在于，包括： 步骤S10.提供一外延结构，所述外延结构包括自下而上依次设置的衬底1、下布拉格反射镜2和有源区3，所述有源区3的顶面具有第一区域5，在所述第一区域5上形成电流扩展层4；所述衬底1包括未被所述下布拉格反射镜2覆盖的第二区域6； 步骤S20.在所述外延结构的整个顶面上形成第一介质膜17，所述电流扩展层4和第二区域6均被所述第一介质膜17覆盖；对所述电流扩展层4上方的第一介质膜17进行刻蚀得到第一窗口18，所述第一窗口18呈环状；对所述第二区域6上方的第一介质膜17进行刻蚀得到第二窗口19； 步骤S30.在所述第一窗口18内形成第一电极20；在所述第二窗口19内形成第二电极21； 步骤S40.在所述第一电极20上方设置上介质布拉格反射镜22，所述上介质布拉格反射镜22的边缘在所述第一介质膜17上的投影位于所述第一窗口18的外环边沿的内侧，且位于所述第一窗口18的内环边沿的外侧； 步骤S50.在所述上介质布拉格反射镜22的顶面形成多个向下延伸的光子晶体空气孔23；且沿所述上介质布拉格反射镜22的中心朝向其周向外侧的方向，所述光子晶体空气孔23的深度逐渐增加。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人度亘核芯光电技术(苏州)股份有限公司;苏州度亘垂腔芯片技术有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号东北区32幢；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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