清华大学;广西三环高科拉曼芯片技术有限公司凌云汉获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学;广西三环高科拉曼芯片技术有限公司申请的专利用于痕量检测的基片、基片的制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114544585B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210103928.7，技术领域涉及：G01N21/65；该发明授权用于痕量检测的基片、基片的制备方法及其应用是由凌云汉;李世林;罗彦;张政军;陈诚;林鹰设计研发完成，并于2022-01-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于痕量检测的基片、基片的制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本公开提供了一种用于表面增强拉曼散射的基片，所述基片包括：银基底，具有银纳米结构表面；和卤化银钝化层，形成于所述银基底的表面。本公开还提供了一种用于表面增强拉曼散射的基片的制备方法和应用该基片进行表面增强拉曼散射痕量检测的方法。
本发明授权用于痕量检测的基片、基片的制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种表面增强拉曼散射的方法，其特征在于，包括： 利用光照激活用于表面增强拉曼散射的基片； 将待测溶液滴加到所述光照激活后的基片上，或者将所述光照激活后的基片浸泡到待测溶液中；以及 利用拉曼光谱仪进行检测， 其中，所述基片包括： 银基底，具有银纳米结构表面，其中，所述银纳米结构包括纯银的结构或含有银的复合纳米结构；和卤化银钝化层，形成于所述银基底的表面，其中，所述卤化银钝化层还原或置换吸附于所述银基底表面的氧化物，以用于阻止环境干扰分子的吸附；所述卤化银钝化层在紫外和或可见光下分解为新鲜表面，所述新鲜表面对待测的目标分子具有增强吸附能力。
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