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佳能株式会社赤松昭郎获国家专利权

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龙图腾网获悉佳能株式会社申请的专利曝光装置、曝光方法、以及物品制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114442445B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111285535.4,技术领域涉及:G03F9/00;该发明授权曝光装置、曝光方法、以及物品制造方法是由赤松昭郎设计研发完成,并于2021-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。

曝光装置、曝光方法、以及物品制造方法在说明书摘要公布了:本发明公开了曝光装置、曝光方法、以及物品制造方法。控制单元基于在第一定时由检测系统检测的照明光的第一分布和在第一定时之后的第二定时由检测系统检测的照明光的第二分布、在第二定时之后的第三定时控制在投影系统的光轴方向上的相对位置和在垂直于光轴方向的方向上的相对位置,在第一定时和第二定时检测的照明光已穿过第一标记和第二标记。

本发明授权曝光装置、曝光方法、以及物品制造方法在权利要求书中公布了:1.一种曝光装置,包括: 投影系统,所述投影系统被配置为将掩模的图案投影在基板上; 检测系统,所述检测系统包括检测单元,所述检测单元被配置为检测已穿过第一标记、所述投影系统、以及第二标记的照明光的光量分布,所述第一标记被部署在所述投影系统的物体表面上,所述第二标记被部署在所述投影系统的图像平面上;以及 控制单元,所述控制单元被配置为控制所述掩模和所述基板的相对位置, 其中,所述检测系统在第一定时通过所述检测单元检测光量分布作为第一光量分布,并且在第二定时通过所述检测单元检测光量分布作为第二光量分布,所述第一定时在对所述基板上的图案进行曝光的曝光处理之前,所述第二定时在所述曝光处理之后,并且 其中,所述控制单元基于所述第一光量分布和所述第二光量分布,控制在所述投影系统的光轴方向上所述掩模和所述基板的相对位置以及在垂直于所述光轴方向的方向上所述掩模和所述基板的相对位置。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人佳能株式会社,其通讯地址为:日本东京;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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