应用材料公司梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利在沉积腔室制造期间的微粒物的实时检测获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112185833B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010624217.5，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权在沉积腔室制造期间的微粒物的实时检测是由梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼;托德·J·伊根;凯尔·罗斯·坦蒂旺设计研发完成，并于2020-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本在沉积腔室制造期间的微粒物的实时检测在说明书摘要公布了：公开的实施方式描述了一种系统，该系统包括：沉积腔室；产生入射光束的光源，其中该入射光束用于照射沉积腔室的区域；和相机，收集源自沉积腔室的照射区域的散射光，其中当第一入射光束与沉积腔室的照射区域内的微粒相互作用时，产生散射光。所描述的系统可以可选地具有处理装置，耦接于所述相机，以产生照射区域的多个位置的散射数据，其中每个位置的散射数据包括源自该位置的散射光的强度。
本发明授权在沉积腔室制造期间的微粒物的实时检测在权利要求书中公布了：1.一种方法，包括： 用入射光束照射沉积腔室的区域； 使用光检测器通过检测源自所述沉积腔室的照射区域的散射光的强度来收集光散射数据，其中所述散射光是在所述入射光束与所述沉积腔室的所述照射区域内的微粒相互作用时产生的，其中检测的所述强度包括与所述入射光束的方向成角度的所述散射光的强度，并且其中收集所述光散射数据的步骤包括： 将所述光检测器的焦点改变至所述沉积腔室的所述照射区域内的多个深度中的每个深度，其中改变所述光检测器的所述焦点的步骤包括改变以下至少之一： 所述光检测器的焦距，或 从所述光检测器的镜头到所述沉积腔室的所述照射区域的距离；以及 收集所述光散射数据的多个子集，其中所述光散射数据的所述多个子集中的每个子集与所述沉积腔室的所述照射区域内的所述多个深度中的相应深度相关联；以及 基于所述光散射数据，确定在所述沉积腔室的所述照射区域内的微粒的分布。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人应用材料公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励