东京毅力科创株式会社榎本正志获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理方法和基片处理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113075867B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011436803.3，技术领域涉及：G03F7/30；该发明授权基片处理方法和基片处理系统是由榎本正志;中村泰之;鹤田丰久设计研发完成，并于2020-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理方法和基片处理系统在说明书摘要公布了：本发明提供基片处理方法和基片处理系统。本发明的基片处理方法包括：对构成基片上的层叠膜的各层生成与该层相关的处理后的基片的拍摄图像的步骤；和对包含基片上的层叠膜的最表层的多个层的每一者，获取表示基于上述拍摄图像推算出的特征量的信息的步骤。本发明能够适当地设定对具有层叠膜的基片的处理条件。
本发明授权基片处理方法和基片处理系统在权利要求书中公布了：1.一种基片处理方法，其特征在于，包括： 对构成基片上的层叠膜的各层，生成与该层相关的处理后的基片的拍摄图像的步骤； 对包含基片上的层叠膜的最表层的多个层的每一者，获取表示基于所述拍摄图像推算出的特征量的信息的步骤，其中，所述特征量关于与该层的形状相关的特征；和 基于所述获取表示特征量的信息的步骤中的表示所述多个层的每一者的所述特征量的信息，将所述多个层的每一者的状态相互比较，决定对形成了层叠膜的基片的处理的条件，或者修正与构成基片上的层叠膜的层相关的处理的条件的步骤。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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