东京毅力科创株式会社舆水地盐获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利载置台和基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112951753B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011277967.6，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权载置台和基片处理装置是由舆水地盐设计研发完成，并于2020-11-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本载置台和基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供对边缘环稳定地施加电压的载置台和基片处理装置。载置台包括：载置基片的基片载置面；在上述基片载置面的周围载置边缘环的边缘环载置面；和形成于上述边缘环载置面的导电性的电极，其能够将电压供给到上述边缘环。
本发明授权载置台和基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种载置台，其特征在于，包括： 载置基片的基片载置面； 在所述基片载置面的周围载置边缘环的边缘环载置面； 具有介电膜和夹在所述介电膜之间的吸附电极的静电吸盘，该静电吸盘构成为能够利用所述吸附电极将所述边缘环吸附在构成所述介电膜的上表面的所述边缘环载置面；和 区别于所述吸附电极的导电性的电极，其以所述介电膜的至少一部分在所述边缘环载置面露出的方式形成在所述介电膜上，能够将电压供给到所述边缘环。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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