三星电子株式会社安兴培获国家专利权
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龙图腾网获悉三星电子株式会社申请的专利制造光掩模组的方法和制造半导体器件的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112731761B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010687745.5，技术领域涉及：G03F1/70；该发明授权制造光掩模组的方法和制造半导体器件的方法是由安兴培;朴商五;丁成坤设计研发完成，并于2020-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本制造光掩模组的方法和制造半导体器件的方法在说明书摘要公布了：一种制造光掩模组的方法包括：准备掩模布局，所述掩模布局包括在第一区域中彼此间隔开的多个第一布局图案，其中，所述多个第一布局图案中的彼此相邻的三个第一布局图案的中心点之间的距离分别具有不同的值；将成对的第一布局图案进行分组，其中，在所述成对的第一布局图案中彼此相邻的两个第一布局图案的中心点之间的距离不具有所述不同的值中的最小值，并将所述掩模布局划分为至少两个掩模布局图案；以及形成包括至少两个光掩模的光掩模组，每个所述光掩模包括与被划分为所述至少两个掩模布局的所述掩模布局中的对应掩模布局中所包括的所述第一布局图案对应的掩模图案。
本发明授权制造光掩模组的方法和制造半导体器件的方法在权利要求书中公布了：1.一种制造光掩模组的方法，所述方法包括： 准备掩模布局，所述掩模布局包括在第一区域中彼此间隔开的多个第一布局图案，并且所述多个第一布局图案中的彼此相邻的三个第一布局图案的中心点之间的距离分别具有不同的值； 将所述多个第一布局图案中的成对的第一布局图案进行分组，在所述成对的第一布局图案中彼此相邻的两个第一布局图案的中心点之间的距离不具有所述不同的值中的最小值，并将所述掩模布局划分为至少两个掩模布局图案；以及 形成包括至少两个光掩模的光掩模组，每个所述光掩模包括与所述至少两个掩模布局图案中的对应掩模布局图案中所包括的所述第一布局图案对应的掩模图案， 其中，准备所述掩模布局包括：使连接所述多个第一布局图案中的彼此相邻的所述三个第一布局图案的所述中心点的三角形为不等边三角形。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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