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龙图腾网获悉未来宝株式会社申请的专利在蚀刻工程中产生的反应副产物的捕获装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115527826B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111086148.8，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权在蚀刻工程中产生的反应副产物的捕获装置是由赵宰孝;李妍周;金仁焕;韩智银;尹性圆设计研发完成，并于2021-09-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本在蚀刻工程中产生的反应副产物的捕获装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种在蚀刻工程中产生的反应副产物的捕获装置，其目的在于提供一种可以在真空泵与洗涤器之间的位置上通过多重流路转换结构、多重捕获结构以及多重装载结构将在半导体制造工程中的蚀刻制程腔室内执行工程之后排出的未反应气体中所包含的反应副产物以粉末形态进行捕获以及装载之后仅将气体状态的未反应气体排出到洗涤器的在蚀刻工程中产生的反应副产物的捕获装置。

本发明授权在蚀刻工程中产生的反应副产物的捕获装置在权利要求书中公布了：1.一种在蚀刻工程中产生的反应副产物的捕获装置，其特征在于： 作为在半导体制造工程中对经由真空泵排出到洗涤器的未反应气体中所包含的反应副产物进行捕获的捕获装置，包括内部捕获塔2，所述内部捕获塔2，包括： 第一捕获结构体21，在将从上部流入的未反应气体的流动通过外廓诱导到下部的同时对反应副产物进行捕获和装载并在下部再次对反应副产物进行多重捕获； 第二捕获结构体22，在将从外廓一侧流入的未反应气体诱导到中央部并使其下降的同时对反应副产物进行捕获并与在第一捕获结构体的下部捕获到的反应副产物一起进行装载； 第三捕获结构体23，在将流入到中央部的未反应气体诱导到外廓的同时对反应副产物进行多重捕获和装载； 第四捕获结构体24，在将从外廓一侧流入的未反应气体诱导到中央部并使其下降的同时对反应副产物进行捕获和装载；以及， 第五捕获结构体25，在将流入到中央部的未反应气体通过外廓诱导到下部的同时对反应副产物进行捕获和装载并再次对反应副产物进行多重捕获；从而在将流入到外壳1的气体流入口的未反应气体转换到外廓或中央部的同时依次使其下降并对反应副产物进行捕获和装载之后，仅将剩余的未反应气体排出到气体排出口， 所述第一捕获结构体21，包括：捕获盘211，在将所流入的未反应气体的流动诱导到外廓的同时对反应副产物进行捕获；以及，捕获圆筒部212，安装在捕获盘211的下部面，为了从所流入的未反应气体中对反应副产物进行多重捕获而由多个捕获圆筒212a多段构成并借此起到过滤器作用。

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