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龙图腾网获悉北京日扬弘创智能装备有限公司申请的专利一种晶圆清洗装置及清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120551119B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511024483.3，技术领域涉及：B08B3/10；该发明授权一种晶圆清洗装置及清洗方法是由葛成重;强成;关仁杰;张永涛;郭占旗;王宏声设计研发完成，并于2025-07-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶圆清洗装置及清洗方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种晶圆清洗装置及清洗方法，涉及半导体制造技术领域，清洗装置包括以下步骤：S1.在清洗流体流道中生成中温液态水的持续溢流；S2.在所述液态水中生成可控空化气泡流；S3.引入辅助气泡流并对空化气泡流进行搅拌混合，形成含双模气泡的混合流体；S4.将混合流体转为垂直层流导向晶圆表面；S5.利用双模气泡溃灭产生的不同频率超声波分级清洗所述晶圆表面污染物；S6.通过溢流持续排出污染物。本发明通过在清洗流体流道内生成空化气泡流与辅助气泡流，通过搅拌混合形成双模气泡流体，借助双模气泡溃灭同步释放高频超声波清除纳米颗粒与低频超声波清除微米颗粒，一步替代传统多步骤清洗，消除晶圆转移损伤风险，大幅缩短清洗周期。

本发明授权一种晶圆清洗装置及清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种晶圆清洗方法，其特征在于，包括以下步骤： S1.在清洗流体流道中生成中温液态水的持续溢流，所述中温液态水的温度范围为50℃-70℃； S2.在所述液态水中生成可控空化气泡流；具体包括： S201.采用激光束聚焦照射液态水，利用激光能量在焦点处引发局部液态水分子汽化，产生横截面积0.1-10μm空化泡； S202.通过振镜系统立体扫描激光焦点，在预设三维空间内编辑空化气泡阵列流； S3.引入辅助气泡流并对空化气泡流进行搅拌混合，所述辅助气泡流为惰性气体射流，形成含双模气泡的混合流体；具体包括： S301.空化气泡利用浮力汇聚至液态水流上部； S302.向汇聚区双侧切向喷射惰性气体射流驱动搅拌； S303.通过环形搅拌加速空化气泡、惰性气体气泡与液态水的混合扩散； S304.静压恢复形成均匀含气泡的垂直层流； S4.将混合流体转为垂直层流导向晶圆0表面； S5.利用双模气泡溃灭产生的不同频率超声波分级清洗所述晶圆0表面污染物； S6.通过溢流持续排出污染物。

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