中国科学院近代物理研究所段敬来获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院近代物理研究所申请的专利一种孔分布均匀的核孔膜的辐照制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120515271B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511028149.5，技术领域涉及：B01D67/00；该发明授权一种孔分布均匀的核孔膜的辐照制备方法是由段敬来;王文涛;胡正国;刘杰设计研发完成，并于2025-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种孔分布均匀的核孔膜的辐照制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于膜材料制备领域，涉及一种孔分布均匀的核孔膜的辐照制备方法，包括以下步骤：根据束流窗口尺寸确定束斑的竖向尺寸；设置核孔膜原膜，确保所述核孔膜原膜伸展且绷紧；采用确定了所述竖向尺寸的离子束对所述核孔膜原膜进行一维扫描；在所述一维扫描的过程中，根据传动速率v和横向扫描频率f，确定辐照单扫描周期的辐照注量I0。本发明以传动速率v和横向扫描频率f为主要控制参量进行耦合，达到辐照注量I准确性，同时保证辐照均匀性，可以在达到目标辐照注量的同时避免辐照产生的横向条纹，实现核孔膜辐照制备过程中的孔分布均匀。
本发明授权一种孔分布均匀的核孔膜的辐照制备方法在权利要求书中公布了：1.一种孔分布均匀的核孔膜的辐照制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 根据束流窗口尺寸确定束斑的竖向尺寸； 设置核孔膜原膜，确保所述核孔膜原膜伸展且绷紧； 采用确定了所述竖向尺寸的离子束对所述核孔膜原膜进行一维扫描； 在所述一维扫描的过程中，根据传动速率v和横向扫描频率f，确定辐照单扫描周期的辐照注量I0； 所述传动速率v通过横向扫描频率f确定，所述传动速率v的计算公式为： vf≈hn 其中，h为竖向窗口尺寸，n为扫描周期系数，其取大于等于1的整数； 设定辐照注量，根据传动速率v和横向扫描频率f，调整辐照注量，统计辐照单扫描周期的辐照注量I0，通过目标辐照注量I目标对传动速率进行调整，即判断辐照单扫描周期的辐照注量I0是否达到目标辐照注量I目标，若没有达到，则对传动速率进行调整，扫描频率越大，辐照单扫描周期的辐照注量I0越小，扫描误差越低。
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