盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司许创威获国家专利权
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龙图腾网获悉盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司申请的专利基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120319704B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510780743.3，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备是由许创威;贾社娜;张大海设计研发完成，并于2025-06-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备，基片盒包括侧壁和可开启的门，基片盒存储装置包括：存储架，存储架包括至少一个承载板，每个承载板包括至少一个承载部和至少一个吹扫部，其中，承载部用于承载基片盒，吹扫部被配置为至少向门吹扫；供气管路，供气管路与吹扫部连通，用于向吹扫部供气；以及壳体，壳体内部具有容纳空间，至少一个承载板设置于容纳空间内，壳体包括排气口，排气口用于排出壳体内的气体。各承载板上设置的吹扫部可在基片盒放置期间，通过向基片盒的门吹扫，将基片盒的门附着的颗粒有效吹落，降低后续基片盒开启时基片被污染的风险，从而保障后续工艺的洁净度。
本发明授权基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备在权利要求书中公布了：1.一种基片盒存储装置，用于存储基片盒，所述基片盒包括侧壁和可开启的门，其特征在于，包括： 存储架，所述存储架包括至少一个承载板，每个所述承载板包括至少一个承载部和至少一个吹扫部，其中，所述承载部用于承载所述基片盒，所述吹扫部被配置为至少向所述门吹扫； 供气管路，所述供气管路与所述吹扫部连通，用于向所述吹扫部供气；以及 壳体，所述壳体内部具有容纳空间，所述至少一个承载板设置于所述容纳空间内，所述壳体包括排气口，所述排气口用于排出所述壳体内的气体。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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