买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119882344B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411929656.1，技术领域涉及：G03F1/84；该发明授权掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品是由周桌霖设计研发完成，并于2024-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品，涉及半导体集成电路技术领域。该掩模版图的处理方法包括：对目标掩模版图进行光刻规则检查，得到目标掩模版图的目标版图特征信息；通过缺陷修正模型对目标版图特征信息进行处理，得到目标掩模版图的目标缺陷修正策略，缺陷修正模型为根据历史版图特征信息以及对应的历史缺陷修正策略对大模型进行微调后得到的模型；基于目标缺陷修正策略，对目标掩模版图进行缺陷修正，得到缺陷修正后的目标掩模版图。

本发明授权掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品在权利要求书中公布了：1.一种掩模版图的处理方法，其特征在于，包括： 对目标掩模版图进行光刻规则检查，得到所述目标掩模版图的目标版图特征信息，所述版图特征信息包括版图缺陷信息以及版图缺陷的周围环境信息； 通过缺陷修正模型对所述目标版图特征信息进行处理，得到所述目标掩模版图的目标缺陷修正策略，所述缺陷修正模型为根据历史版图特征信息以及对应的历史缺陷修正策略对大模型进行微调后得到的模型； 基于所述目标缺陷修正策略，对所述目标掩模版图进行缺陷修正，得到缺陷修正后的目标掩模版图； 所述基于所述目标缺陷修正策略，对所述目标掩模版图进行缺陷修正，得到缺陷修正后的目标掩模版图，包括：在所述目标掩模版图包括桥连缺陷类型的缺陷图形的情况下，获取所述目标掩模版图中的桥连区域；对所述桥连区域中的第一掩模图形执行第一图形修正操作，以使各所述第一掩模图形之间的曝光轮廓相分离，得到缺陷修正后的所述目标掩模版图，所述第一掩模图形为所述桥连区域中曝光轮廓相连的各掩模图形； 所述基于所述目标缺陷修正策略，对所述目标掩模版图进行缺陷修正，得到缺陷修正后的目标掩模版图之后，所述方法还包括：对所述目标掩模版图执行制造规则检查操作，得到版图检查结果；在所述版图检查结果指示所述目标掩模版图不存在制造规则违规问题的情况下，将所述目标掩模版图确定为最终掩模版图；在所述版图检查结果指示所述目标掩模版图存在制造规则违规问题的情况下，对所述目标掩模版图的违规区域进行修正，直至所述目标掩模版图不存在版图缺陷且不存在制造规则违规问题，得到最终掩模版图。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳晶源信息技术有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区红棉街8号英达利科技数码园C栋401A；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。