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龙图腾网获悉中国石油大学(华东)申请的专利抗生物非特异性吸附拉曼增强基底制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119780062B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411987532.9，技术领域涉及：G01N21/65；该发明授权抗生物非特异性吸附拉曼增强基底制备方法及其应用是由于连栋;朱宏家;高荣科;陆洋设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本抗生物非特异性吸附拉曼增强基底制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抗生物非特异性吸附拉曼增强基底制备方法及其应用，包括步骤1，采用紫外光刻以及倒模方法制备基底印章；步骤2，DLD三角柱阵列基底制备；步骤3，DLD三角柱阵列基底表面结构加工；步骤4，DLD三角柱阵列基底镀金；步骤5，DLD三角柱阵列基底SEM表征；骤6，基底的SERS性能测试；步骤7，基底适体孵育；步骤8，两性离子合成与修饰；本发明提出的两性离子能够减少基底上物质的非特异性吸附，从而使CTCs能够更好和基底接触，而本发明的基底具有较多的微纳结构，具有较高的比表面积，更好的促进细胞伸出伪足进行附着，同时巨大的比表面积能够修饰更多适配体进行捕获肿瘤细胞，从而提高了捕获效率。

本发明授权抗生物非特异性吸附拉曼增强基底制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种抗生物非特异性吸附拉曼增强基底制备方法，其特征在于，包括以下步骤； 步骤1，采用紫外光刻以及倒模方法制备基底印章； 通过AutoCAD画出确定性横向位移DLD的三角柱基底，打印出菲林版； 在硅片上旋涂30µm的3035光刻胶，通过光刻制备出阳模板； 通过聚二甲基硅氧烷PDMS倒模得到基底印章； 步骤2，DLD三角柱阵列基底制备； 在玻璃片上滴一滴SU-2010光刻胶，将步骤1制备印章压在光刻胶上，光固化得到DLD三角柱阵列基底； 步骤3，DLD三角柱阵列基底表面结构加工； 将步骤2的DLD三角柱阵列基底在优化后的飞秒激光参数下进行飞秒激光加工，然后优化电感耦合等离子体，在三角柱侧壁加工出微纳结构，得到具有微纳结构的DLD三角柱阵列基底； 步骤4，DLD三角柱阵列基底镀金； 将加工完成的基底在电子束真空镀膜仪中镀金30nm； 步骤5，DLD三角柱阵列基底SEM表征； 将经过不同加工条件的三角微柱基底进行表面形貌表征，进行热场发射扫描电子显微观察并记录表面形貌； 步骤6，基底的SERS性能测试； 将步骤4的镀金DLD三角柱阵列基底进行氧等离子体亲水处理后，放入到MGITC溶液中，采用共聚焦拉曼光谱仪进行基底SERS性能均一性测试； 步骤7，基底适体孵育； 步骤8，两性离子合成与修饰； 通过氧化N,N-双3-氨基丙基甲胺DNMA合成两性离子N,N-双3-氨基丙基甲胺氧化物DNMAO并将其修饰在基底上。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国石油大学(华东)，其通讯地址为：266580 山东省青岛市黄岛区长江西路66号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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